RISS 학술연구정보서비스

검색
다국어 입력

http://chineseinput.net/에서 pinyin(병음)방식으로 중국어를 변환할 수 있습니다.

변환된 중국어를 복사하여 사용하시면 됩니다.

예시)
  • 中文 을 입력하시려면 zhongwen을 입력하시고 space를누르시면됩니다.
  • 北京 을 입력하시려면 beijing을 입력하시고 space를 누르시면 됩니다.
닫기
    인기검색어 순위 펼치기

    RISS 인기검색어

      KCI등재후보 SCIE SCOPUS

      Preparation and Characterization of Oxadiazole Based Electron Transporting Thin Films

      한글로보기

      https://www.riss.kr/link?id=A105872204

      • 0

        상세조회
      • 0

        다운로드
      서지정보 열기
      • 내보내기
      • 내책장담기
      • 공유하기
      • 오류접수

      부가정보

      다국어 초록 (Multilingual Abstract)

      To study the effect of aggregation of the 2-(4-biphenylyl)-5-phenyl-1,3,4-oxadiazole (PBD) molecule in solid state, thin films of PBD have been prepared by the thermal evaporation technique onto glass and quartz substrates under different experimental...

      To study the effect of aggregation of the 2-(4-biphenylyl)-5-phenyl-1,3,4-oxadiazole (PBD) molecule in solid state, thin films of PBD have been prepared by the thermal evaporation technique onto glass and quartz substrates under different experimental conditions. These films have been studied for their structural, optical and electrical properties. AFM investigations of the films revealed that the films were smooth, dense and crack free with RMS roughness of 11-14 nm. XRD measurements indicate that films deposited on quartz are more crystalline than films deposited on glass substrate. Both absorption and reflectance spectra over the wavelength range 200 -800 nm have been recorded to find optical parameters, namely, absorption, extinction coefficient, refractive index and dielectric constants. The inter-band transition energies are found to lie within the range 3.45-3.49 eV. Optical studies of the films indicate that PBD molecules preferred J-aggregation.
      A prominent single emission peak in the range of 370-390 nm has been observed which confirms that the fluorescent property of this molecule is not quenched in the thin film state. The electrical conductivity results for the evaporated films exhibited semiconductor behaviour within the investigated field and temperature range.
      The nature of the substrate is found to be a useful tool to modify the film morphology and for enhancing the charge transport within the films.

      더보기

      참고문헌 (Reference)

      1 U. Mitschke, 10 : 1471-, 2000

      2 B. Schulz, 9 : 601-, 1997

      3 M. H. Shin, 18 : 212-, 2007

      4 J. Bettenhausen, 82 : 4957-, 1997

      5 M. Guan, 21 : 2708-, 2003

      6 G. Hughes, 15 : 94-, 2005

      7 Y. C. Zhu, 72 : 414-, 2009

      8 C. Adachi, 55 : 1489-, 1989

      9 Z. Lu, 84 : 1287-, 2010

      10 V. N. Salimgareeva, 76 : 1655-, 2003

      1 U. Mitschke, 10 : 1471-, 2000

      2 B. Schulz, 9 : 601-, 1997

      3 M. H. Shin, 18 : 212-, 2007

      4 J. Bettenhausen, 82 : 4957-, 1997

      5 M. Guan, 21 : 2708-, 2003

      6 G. Hughes, 15 : 94-, 2005

      7 Y. C. Zhu, 72 : 414-, 2009

      8 C. Adachi, 55 : 1489-, 1989

      9 Z. Lu, 84 : 1287-, 2010

      10 V. N. Salimgareeva, 76 : 1655-, 2003

      11 P. K. Paul, 128 : 41-, 2008

      12 L. S. Birks, 16 : 687-, 1946

      13 G. K. Williamson, 1 : 22-, 1953

      14 K. Khun Khun, 257 : 2929-, 2011

      15 K. B. Kim, 708 : 2002

      16 S. Kim, 21 : 1616-, 2011

      17 J. H. Choi, 159 : 15-, 2009

      18 S. Paek, 504 : 52-, 2009

      19 S. Kirstein, 40 : 129-, 2000

      20 G. Hughes, 15 : 94-, 2005

      더보기

      동일학술지(권/호) 다른 논문

      동일학술지 더보기

      더보기

      분석정보

      View

      상세정보조회

      0

      Usage

      원문다운로드

      0

      대출신청

      0

      복사신청

      0

      EDDS신청

      0

      동일 주제 내 활용도 TOP

      더보기

      주제

      연도별 연구동향

      연도별 활용동향

      연관논문

      연구자 네트워크맵

      공동연구자 (7)

      유사연구자 (20) 활용도상위20명

      인용정보 인용지수 설명보기

      학술지 이력

      학술지 이력
      연월일 이력구분 이력상세 등재구분
      학술지등록 한글명 : Electronic Materials Letters
      외국어명 : Electronic Materials Letters
      2023 평가예정 해외DB학술지평가 신청대상 (해외등재 학술지 평가)
      2020-01-01 평가 등재학술지 유지 (해외등재 학술지 평가) KCI등재
      2013-10-01 평가 등재학술지 선정 (기타) KCI등재
      2011-01-01 평가 등재후보학술지 유지 (기타) KCI등재후보
      2009-12-29 학회명변경 한글명 : 대한금속ㆍ재료학회 -> 대한금속·재료학회 KCI등재후보
      2008-01-01 평가 SCIE 등재 (신규평가) KCI등재후보
      더보기

      학술지 인용정보

      학술지 인용정보
      기준연도 WOS-KCI 통합IF(2년) KCIF(2년) KCIF(3년)
      2016 1.68 0.41 1.08
      KCIF(4년) KCIF(5년) 중심성지수(3년) 즉시성지수
      0.89 0.83 0.333 0.06
      더보기

      이 자료와 함께 이용한 RISS 자료

      나만을 위한 추천자료

      해외이동버튼