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        Si(111)7×7 표면에서 Mg 성장양상 연구

        안기석(Ki-Seok An),여환욱(Hwan-Wook Yeo),이경원(Kyung-Won Lee),이순보(Soon-Bo Lee),조용국(Yong-Kook Joh),박종윤(Chong-Yun Park) 한국진공학회(ASCT) 1993 Applied Science and Convergence Technology Vol.2 No.4

        Si(111)7×7 위에 Mg를 흡착시켜 표면구조의 변화를 RHEED(Reflection High Energy Electron Diffraction)와 XPS(X-ray Photoelectron Spectroscopy)를 이용하여 연구하였다. RT~200℃까지의 기판온도에서 증착량의 증가에 따라 표면구조는(7×7)에서 diffused (1×1) 그리고 (2√3/3×2√3/3-R30°) 구조로 변화하였다. 또한, 기판온도를 증가시킴에 따라 (1×1), three domain (3×1) 등의 구조를 볼 수 있었고, 특히, 450℃의 기판온도에서는 single domain (3×1) 구조를 최초로 관측하였다. 이렇게 형성된 각 구조에 대한 Mg KLL과 Si2p의 XPS peak intensity ratio를 증착량의 증가에 따라 측정하여 각기 다른 온도에서의 Mg 성장에 대한 메카니즘을 제시하였다. Changes of the Si(111)7×7 surface structure upon Mg adsorption have been studied by RHEED (Reflection High Energy Electron Diffraction) and XPS (X-ray Photoelectron Spectrocopy). The RHEED pattern of Si(111)7×7 is changed to the diffused (1×1) and(2√3/3×2√3/3-R30°) patterns with increasing deposition time of Mg at room temperature. The three domain (3×1) structure appear at the adsorption temperature of 350℃. In particular, we first observed (1×1) and single domain (3×1) structures at adsorption temperature of 300, 450℃, respectively. From these results and measuring Mg KLL/Si2p XPS peak intensity ratio, we would expect that the relative coverages of Mg on Mg-induced (3×1) and (1×1) structure are to be 1/3 and 1 ML, respectively.

      • Na이 흡착된 Si(111)7×7 표면에 대한 상변화 연구

        조용국 경기대학교 1995 論文集 Vol.37 No.-

        Reflection-high-energy-electron-diffraction(RHEED)을 이용하여 기판온도를 상온과 200∼700℃로 유지한 Si(111)7×7 표면위에 Na가 흡착된 경우의 표면 초격자구조의 변화를 관측하였다. 먼저 기판온도가 상온인 경우 Na의 증착량이 증가함에 따라 깨끗한 (7×7) 구조는 δ-(7×7) 구조로 변화된 후, 더 이상의 상변화는 일어나지 않았다. 이 δ-(7×7) 구조는 약 500℃로 annealing하였을 때 Na 원자가 서서히 탈착되기 시작하여 약 700℃에서 깨끗한 (7×7) 구조를 완전히 회복하였다. 300∼500℃의 기판온도에서 Na을 흡착시킨 경우에는 3 domain (3×1) 구조를 관측하였다. 특히 500℃의 경우에는 일반적으로 관측되는 3 domain(3D) (3×1) 구조와는 달리 단지 하나의 방향으로 spot intensity가 강한 single domain(1D) 3×1 구조가 관측되었다 이러한 3×1 구조 역시 약 7007의 온도에서 깨끗한 7×7구조로 회복되었다. We have studied phase transition by Na adsorption on Si(111)7×7 surface maintained at room temperature and 200∼700℃ using reflection high energy electron diffraction(RHEED). At room temperature, the RHEED pattern of clean (7×7) changed to δ-(7×7) with increasing Na deposition, and then a different phase transition was not observed any more despite of the change of deposition amour. In this phase, Na atoms started to desorb at the substrate temperature about 500℃, and the clean (7×7) surface was completely recovered at 700℃. A 3-domain (3×1) pattern was observed at 300∼500℃. In particular, we could observe a single domain (3×1), that is, the RHEED spot intensity of (3×1) superlattice along one direction is dominent than that of other two direction at about 500℃. These (3×1) pattern was back to clean (7×7) surface at 700℃.

      • 한국과 일본의 고등학교 물리교과서의 비교연구

        조용국,조태현,임숙주 경기대학교 1996 論文集 Vol.38 No.2

        This study is to analyze the physics textbooks of Korea and Japan comparatively. The conclusions are as follows: The textbooks in Korea are consisted of two parts; physics I and Ⅱ chapters, while the textbooks in Japan are only one book with four chapters. The chapter of 'Force and Motion' is dominant in contents of the textbooks in Korea, while 'Electromagnetism' occupies the most part in Japan. For the textbooks in Korea the chapter of 'Modem physics' is 24.6% of all contents in the number of experiments, but the experiments are not shown in 'Modern Physics' for the Japanese textbooks. The number of photographs per page in Japan is slightly more than in Korea, but the number of figure, graph, table, problem, and experiments per page in Korea prevail the ones of Japan. In analyzing the physics textbooks of Korea and Japan comparodively, the Korean textbooks give much emphasis on 'Force and Motion' basis of physics, and on 'Modern physics', applied physics, while Japan has had a film basis of developing the electronic industry by emphasizing 'Electromagnetism' and 'Force and Motion' in their textbooks.

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