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김홍성 ( Hong Sung Kim ),강지혁 ( Ji-hyuk Kang ),양만길 ( Man-gil Yang ),박창은 ( Chang-eun Park ),신경아 ( Kyung-a Shin ),권필승 ( Pil Seung Kwon ) 대한임상검사과학회 2018 대한임상검사과학회지(KJCLS) Vol.50 No.3
임상병리학과 학제 단일화에 대한 의견을 교수와 병원근무자들을 대상으로 설문조사 형식으로 조사하여 분석하였다. 2018년 1월 18일부터 25일까지 웹 버전의 설문지가 255명의 대학교수들과 4,000명의 병원근무자들에게 배포되었다. 회수율은 교수들은 79명(30.9%), 병원실무자들은 1,368명(34.2%)이 응답하였다. 임상병리학의 학제 이원화에 대한 인식조사에서는 교수와 병원근무자 모두 4년제로 학제 통합이 필요하다고 조사되었다. 4년제 통합 전제조건은 임상병리 인증평가원 설립과 교육과정의 표준화가 높게 조사되었고, 4년제 통합의 필요조건은 학생정원조정과 교육과정의 표준화가 높게 조사되었다. 4년제 통합방식은 인증평가를 통과한 대학만이 4년제를 운영해야 한다는 의견이 교수와 병원근무자 모두 가장 높게 조사되었다. 4년제 통합시 대학정원 적정인원은 40명 미만이 가장 높게 조사되었다. 결론적으로 교수들과 병원실무자들은 의료환경의 급격한 변화에 부응하는 전문성을 가진 임상병리사를 배출하기 위해서는 임상병리학과 학제의 4년제 통합이 필수적이고, 이를 위해 임상병리인증평가원 설립, 교육과정의 표준화, 학생정원조정 이 전제되어야 한다고 생각하고 있음을 보여준다. Opinions regarding interdisciplinary unification of medical laboratory science were analyzed by an online questionnaire distributed to 255 professors and 4,000 hospital practitioners in January of 2018. The recovery rate was 79 (30.9%) for professors and 1,368 (34.2%) for hospital practitioners. In the perception survey on the duality of interdisciplinary, both the professors and the hospital practitioners reported that they felt interdisciplinary integration is necessary. The prerequisite of four-year integration was the establishment of institute of accreditation and standardization of curriculum, and the requirements for the four-year integration were considered important for adjustment of student quota and standardization of curriculum. In the four-year integrated approach, the opinion that only universities that passed the accreditation evaluation should operate a four-year system was highest among professors and hospital practitioners. The optimum capacity of university students was less than 40 in cases of 4-year integration. In conclusion, the above results suggest that the professors and hospital practitioners realize 4-year interdisciplinary integration is necessary to produce a competent medical technologist, and the institute of accreditation, standardization of curriculum, and student quota adjustment should be presupposed for 4-year integration.
기저층 및 열처리 효과가 Co / Cu 다층박막의 자기저항에 미치는 영향
김미양(Mee-Yang Kim),최규리(Kyu-Lee Choi),최수정(Soo-Jung Choi),송은영(Eun-Young Shong),이장로(Jang-Roh Rhee),황도근(Do-Guwn Hwang),이상석(Sang-Suk Lee),박창만(Chang-Man Park),이기암(Ky-Am Lee) 한국자기학회 1997 韓國磁氣學會誌 Vol.7 No.2
Dependence of magnetoresistance on the thickness of Cu, type and thickness of buffer layer, and the stacking number of multilayer in the form buffer /[Co(17Å)/Cu(tÅ)]_(20) were investigated. To evaluate effect of annealing on this samples, X-ray diffraction analysis, vibrating sample magnetometer analysis, and magnetoresistance measurement(4-probe method) were performed. The magnetoresistance ratio exhibits a maximum of 21% for the multilayer with Cu thickness of 24Å and Fe buffer layer thickness of 50Å. Deposition of film under low base pressure induces in increase magnetoresistance ratio by preventing oxidation. The multilayer annealed below 300℃ temperature allowed larger textured grain without loss in the periodicity. Magnetoresistance ratios of the multilayer with Cu thickness of 24Å and 36Å were increased due to the increase in the antiferromagnetically coupled fraction after annealing.
스퍼터링 조건에 따른 Co 박막의 증착속도 및 미세구조의 변화
백주열,박창만,최영근,이기암,황도근 단국대학교 신소재기술연구소 1992 신소재 Vol.2 No.-
DC 마그네트론 스퍼터링법으로 제조된 코발트 박막에 대해 증착속도 및 미세구조에 미치는 스퍼터링조건의 영향을 조사하였다. 증착속도는 투입전력이 커질수록 증가하였으며, 아르곤 압력이 커질수록 감소하였는데, 이는 투입전력의 증가로 인한 타게트 표면의 이온전류 밀도의 상승과 Ar 압력증가에 따른 비산효과의 증대로 인한 타게트 표면의 이온 전류 밀도의 감소로 고찰되었다. 투입전력이 커질수록 결정립의 크기가 감소하였으며, 투입 전력에 관계없이 특정한 면이 발달하지 않는 비정실 구조를 나타내었다. Ar 압력에 관계없이 비정질 구조를 나타내었다. We have investigated the influence of sputtering condition on deposition rate and microstructure of Co thin film produced by the method of DC Magnetron Sputtering. Deposition rate increased with the input power due to the rise in ionic current density on the surface of target, and decreased with the pressure of Ar gas due to the decrement of ionic current density by the effect of diffusion. Microstructure of the Co thin film became a finer structure with the increase in the input power, and showed amorphous irrespective of the charge of the input power and the pressure of Ar gas.