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성폭력피해를 입은 정신지체아의 위기극복을 위한 미술치료 사례연구
최금란,김갑숙 한국미술치료학회 2004 美術治療硏究 Vol.11 No.1
본 연구는 성폭력 피해를 입은 정신지체아의 위기 극복을 목적으로 미술치료를 실시한 사례연구이다. 내담자는 성폭력 피해를 입은 중학교 3학년 여학생이었으며, 미술치료는 2001년 12월 13일부터 2002년 3월 8일까지 회기당 90분씩 16회 실시하였다. 이 사례연구의 결과는 다음과 같다. 첫째, 미술치료는 성폭력 피해 정신지체아의 불안감을 해소시켜 정서적 안정을 부여하였다. 둘째, 미술치료가 성폭력 피해 정신지체아의 자존감 향상에 긍정적 영향을 미쳤다. The purpose of this case study was to examine the effects on crisis-weathering of a sexually abused child with mental retardation through art therapy process. The subject was a sexually abused girl with mental retardation, 16y years old in the third grade at junior high school. Therapy period was from December, 13 of 2001 to March, 8 of 2002 for 16 sessions. Each session lasted approximately 90 minutes. The results of this case study were as follows; First, art therapy program was effective in emotion comfort. Second, art therapy program was effective in the self-esteem improvement. Key Words : sex abuse, mental retardation, crisis-weathering, art therapy
고체내에서 입사전자의 투과곡선에 관한 Monte Carlo 계산
최금란,유기수 圓光大學校 基礎自然科學硏究所 1987 基礎科學硏究誌 Vol.6 No.2
The transmission T(x) of aluminium, copper, and gold in films are calculated with a Monte Carlo method for various incident energies. In this work we attempt to examine the applicability of a Monte Carlo method in connection with a single scattering model. From the normalized transmission T(x/x_0.5), the maximum range, R_max, and extrapolated range, R_E, are determined. The curves for different energies are also scaled to a unique transmission curve by T versus x/x_0.5. The calculations show good agreement with those of the experimental data but u=0.69 instead of u=1 in empirical formula for trasmission curve.
기존 건축물의 승강로 화재안전성능 개선 방안에 관한 연구
최금란(Choi, Keum-Ran),유승관(Ryu, Seung-Kwan),윤명오(Yoon, Myung-O) 한국화재소방학회 2010 한국화재소방학회 학술대회 논문집 Vol.2010 No.춘계
기존 건축물은 현행 소방법 및 건축법을 소급해 적용할 수 없다는 이유로 비상용승강기와 제연설비가 설치되어 있지 않는 경우가 상당수 존재한다. 이렇듯 화재에 취약할 수밖에 없는 기존 건축물에서 화재가 발생했을 때 소방대 진입 및 구조활동이 가능한 통로를 확보하는 것이 매우 중요하다. 본 연구는 이러한 관점에서 기존 건축물의 화재안전성능 개선에 따른 부담을 최소화하는 방안으로 승강로 급기가압 방식을 제시한다. 먼저, 수직통로를 통한 연기 확산에 무방비 상태인 기존의 고층 건축물의 문제점 및 화재사례를 분석하고, 국내외 비상용승강기 및 제연설비 관련 법규 현황을 비교분석하였다. 그리고 NIST의 Contam을 이용한 시뮬레이션을 통하여 승강로 급기가압 전과 후의 층별 차압을 비교함으로써 승강로 가압이 연돌효과에 미치는 영향을 분석하였다.
배봉갑,최금란,노병수,Bae, Bong-Gap,Choi, Keom-Ran,Ro, Byeong-Su 해양환경안전학회 2009 해양환경안전학회지 Vol.15 No.2
이 연구에서는 선박용 팬일유니트의 엇갈림 냉각관 주위 유동특성을 실험적으로 고찰하였다. 입자영상유속계를 이용하여 입구유속기준 레이놀즈수 Re = $1.5{\times}10^3$에서 Re = $2.5{\times}10^3$까지 계측결과를 얻었다. 그 곁과 유동은 흐름방향으로 빠른 속도로 발달하여 비교적 짧은 거리 후방에 공간적인 주기성을 나타내었다. 유동이 발달하는 영역에서는 레이놀즈수에 의존하는 경향이 크게 나타났으나 공간적 주기성에 미치는 레이놀즈수의 영향은 크지 않았다. This experimental study investigated in to the flow characteristics around staggered cooling tube arrays of fan coil unit for ship. A particle image velocimetry technique was employed to obtain detailed measurements at inlet-velocity-based Reynolds numbers of $Re=1.5{\times}10^3{\sim}Re=2.5{\times}10^3$. As for the results, the flow evolves rapidly and becomes spatially periodic in the streamwise direction after a relatively short distance. The flow exhibits strong Reynolds number dependence in developing region but no significant Reynolds number effects are observed in spatially periodic region.
전자빔 리소그래피에서 0.3μm 리지스트 패턴을 위한 工程許容範圍
유기수,최금란,유흥우 圓光大學校 基礎自然科學硏究所 1993 基礎科學硏究誌 Vol.12 No.2
전자빔 直接 露光方法에 의해서 64 M bit DRAM을 위한 0.3㎛ 線幅 리지스트 斷面形狀에 대한 工程 許容範圍를 컴퓨터 시뮬레이션으로 계산하였다. 시료 구성은 0.3㎛의 W을 입히지 않은 Si기판과 W을 입힌 Si기판으로 구성한 3층 리지스트系로 하였다. 공정 허용범위는 0.2㎛ 단일선과 0.2㎛선 -0.4㎛선간 거리의 평행선에서 0.3㎛ 線幅과 0.3㎛ 線間 距離를 위한 리지스트 단면형상으로 전자빔의 에너지와 전자빔 조사법을 달리하면서 계산하였다. 그리고 평행선의 외각선은 補助 露光法에 의해서 중앙선의 공정 허용범위와 같게 하였다. This study describes the electron beam direct writing technology for 64M bit DRAMs including a resist process for 0.3㎛ fabrication. The delineation capability of 0.3㎛ lines is estimated by evaluating process latitudes with computer simulation. The trilayer resist system consists of layers on bare silicon substrate covered with 0.3㎛ tungsten. The behaviour of developed resist profiles under different conditions of direct writing technology and electron energy is presented in case of 0.2㎛ isolated line and a grating of 0.2㎛/0.4㎛ lines and spaces. The results show that the higher electron energy makes the process latitude larger and the resist patterns on W layer is less effective than bare Si substrate, however the process latitudes of two beam writing are larger than those of three beam writing. And the proper resist profiles of the grating periphery can be much the same as its center by the subsidiary exposure method.