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Compact ECR plasma 의 제작과 Si의 식각반응
윤민희 ( M. H. Yun ),남기석 ( K. S. Nahm ),서문석 ( W. I. Park ),박원일 ( M. S. Seo ),이기방 ( K. B. Lee ) 한국공업화학회 1992 한국공업화학회 연구논문 초록집 Vol.1992 No.0
Plasma기술은 고집적도를 요하는 현재의 정밀전자소자( microelectronic devices ) 제조공정에서 박막의 증착 및 식각 등에 광범위하게 이용되는 매우 중요한 기술이다. 10<sup>-2</sup> - 1 Torr정도의 압력에서 고주파 방전( RF-discharge )에 의해 생성된 plasma를 이용한 plasma CVD 나 plasma 식각, 반응성 이온 식각( reactive ion etchng, RIE )는 박막의 증착 및 식각공정에 중요하게 이용되고 있다. 그러나 이 방법들은 선택도가 낮으며, 고 이온 에너지 때문에 생기는 이온충격( ion bombardment )에 의한 wafer 의 손상때문에 열적 및 전기적 손상에 매우 민감한 초 정밀 전자소자의 제조에 이용하기는 문제점을 안고있다. 이에 반하여 자계안에서의 전자의 원운동 주파수와 여기에 이용되는 microwave 의 주파수를 일치시켜 공조흡수에 의해 plasma 를 형성하는 전자싸이크로트론공조( electron cyclotron resonance ) plasma 는 낮은 압력( 10<sup>-3</sup> - 10<sup>-6</sup> Torr )에서도 저 이온 에너지와 고 밀도의 반응성 기체 plasma를 생성하며, 전극을 이용하지 않으므로 전극재료에 의한 오염이 없다는점. 그리고 식각 압력에의해 이온에너지를 조절할 수 있어서 이온충격에 의한 손상이 없이도 이방성 식각을 얻을 수 있어서 기존의 plasma 장치에 비교하여 우수한 특성을 갖고있다. 그러나 ECR plasma 장치는 고가여서 실험실에서 사용하기는 어려운 실정이다. 따라서 본 연구실에서는 ECR plasma 장치의 일반화를 위해서 실험실적 규모의 compact ECR plasma 장치를 제작하여 그 plasma 특성을 실험적으로 조사하였다. ECR plasma 특성을 규명하기위해 Langmuir단탐침( single probe )을 이용하여 I-V특성실험을 하였다. 제작된 compact ECR plasam 장치를 이용하여 silicon 의 식각실험을 CF<sub>4</sub>/AT 과 CF<sub>4</sub>/CCI<sub>4</sub> 의 조성비를 변화시키면서 식각각도를 조절하였다. 식각압력, 유량 및 온도에 따른 식각각도를 조사하였다.
ADSORPTION OF NOBLE GAS ON POROUS MEDIA
Lee, K. B. 全北大學校 1975 論文集 Vol.17 No.-
1. 본 연구에서는 He과 Ar으로 석여진 기체를 활성화한 탄소입자로된 다공성매질에 통과시킬 때 Ar원소가 다공성 매질 내에 전파해 가는 율을 실험적으로 측정했다. 2. 실험에서 얻어진 Data를 다공성매질내 유체의 이동에 관한 Madey-pflumm의 흡착 이론에 근거해서 분석 연구해 보았다. 3. Modey-Pflumm의 흡착이론에 따른 실험Data의 분석에서 얻은 자료에 의해 결정된 "Columbia"형4L×C 12/28 활성탄소입자의 흡착용양 (체적에 의한)은 온도290°K에 0.98 Mole % Ar에 대해서 탄소 1g 당0.095±0.004cc(STP)이다. 4. 정(靜)的 方法에 의해 얻은 흡착용양과 이 연구에서 사용한 방법 즉 動的 方法에 의해 얻어진 흡착용양을 비교 연구해 보았다. We have generated experimental data on the time-dependent transmission of noble gas (here argon) in helium flowing through beds packed with activated carbon adsorbent; and we have analyzed and interpreted these data on the basis of a dispersion model for the transport of a fluid through a packed bed. The transmission of argon through an adsorder bed is the ratio of the argon concentration at the outlet of the adsorder bed to that at the inlet. Guided by the model, we have been able to correlate the data obtained for different gas flow rates and bed dimensions, We determined the volume adsorption capacity (adsorptivity)"Columbia" type 4LXC 12/28 activated carbon at a temperature of 293˚K for 0.98 mole percent argon in helium to be 0.095± 0.004 cc(STP) per gram of carbon.