http://chineseinput.net/에서 pinyin(병음)방식으로 중국어를 변환할 수 있습니다.
변환된 중국어를 복사하여 사용하시면 됩니다.
실리콘 이온주입 SiO₂층의 나노결정으로부터의 광루미네센스
위덕대학교 산업기술연구소 위덕대학교 산업기술연구소 2001 산업기술연구소 논문집 Vol.5 No.1
실리콘 기판 위에 형성한 열산화막에 실리콘이온을 주입하고 열처리를 수행한 후, 광루미네센스 (photoluminescence: PL)스펙트럼을 조사하였다. 주입된 실리콘이온의 도즈량과 열처리 온도에 따른 PL스펙트럼의 변화를 조사한 결과, 실리콘이온 주입된 열산화막의 광루미네센스가 실리콘 나노결정에 기인함을 알 수 있었다. 산화막을 1분 간격으로 습식 식각하면서 식각 량에 따른 PL특성의 변화를 조사하여, PL피크(peak)를 결정하는 요소는 산화막내에 분포하는 나노 결정의 크기와 수에 밀접한 상관이 있음을 알 수 있었다. 본 연구 결과에 의한 PL피크의 범위는 680nm~830nm 대이었다. Photoluminescence(PL) spectrum of Si^(+) ion-implanted SiO_(2) film with thermal annealing process was investigated. The sample with higher dose Si^(+) ion revealed longer wavelength peak. However PL intensity of higher dose sample was smaller than that of lower dose implanted one. PL peak moved to longer wavelength as the temperature of thermal annealing process became to be high. PL spectrum was observed after wet etching of the annealed Si^(+)implanted SiO_(2) film at every one minute BOE etchant. PL spectrum is considered to be resulted as dominant size and quantity of nano-crystalline silicon in the annealed SiO_(2) film with Si^(+) ion. The PL peak range resulted from our experiment was 680nm~830nm.
조흥전기산업(주)기술연구소 대한용접접합학회 1992 대한용접·접합학회지 Vol.10 No.4
용접은 자동차, 중공업, 조선, 건설, 항공 등 주요 기간산업의 기반기술로서, 금속가공분야 가운데 특히 접합부문에 특별한 의미를 내포하고 있다. 그러나 기반기술로서의 중요성도 불구하고 국 내산업전반에서의 용접은 비교적 낙후된 모습을 보이고 있는 것이 부인할 수 없는 실정이다. 용접이란, 금속가공의 일개공정을 의미하는 용어로 간단히 정의될 수 있지만 용접공정이 원만히, 성공적으로 수행되기 위한 준비되고 연구되어야 할 분야는 매우 복잡하고 다양한 양상을 띄고 있는데 우선, 모재와 용가재를 용해하기 위한 열원으로서는 전기에너지, 화학연소 에너지, LASER, 가속전자, PLASMA가 응용되고 있으며 그 에너지를 유효하게 용접에 이용하기 위한 주변장치로서는 TORCH, JIG, 각종 전자적 SENSOR각 활용되고 있다. 또한, 모재의 재질에 따른 용접재료와 소모성자재의 선택이 부수적으로 따르게 되어 각각의 분야에는 그 특성에 준 하는 학문적 이론이 광범위하게 적용되고 있다. 각종 구조물 제작이 용접의 최종적인 목적이라고 할 때, 제작에 따른 재료와 모재형상, 그리고 각종 기능적 요구에 부합하기 위한 열원, 재료, 용접방법, 검사방법등의 선택은 종합적인 학문적 이론과 실제적 응용이 뒷받침 돼야 함을 전제 로써, 본고에는 용접전반의 문제중, 전기용접기기 및 용접관련 자동화 설비의 현주소 파악과 문 제의 접근측면에서만 간단히 기술하고자 한다.