http://chineseinput.net/에서 pinyin(병음)방식으로 중국어를 변환할 수 있습니다.
변환된 중국어를 복사하여 사용하시면 됩니다.
김종기,정진봉,백주열,이기암 단국대학교 신소재기술연구소 1993 신소재 Vol.3 No.-
DC Magnetron Sputtering 법으로 제조된 Ni_1-xFe_x 박막에 대해 박막의 두께 및 시편의 조성비가 자기저항비에 미치는 영향에 대하여 조사하였다. 시편의 조성비는 Fe chip의 개수로 조정하였으며, 박막의 두께는 400∼1600Å으로 변화시켰다. 복합타겟의 구성방법은 개량된 모자이크방식이었고, 자기저항비는 4-point probe를 이용하여 측정하였다. Fe의 조성이 증가함에 따라서 자기저항비는 증가하였으며, 조성이 x≒11에서 최대가 되었고, 두께가 증가함에 따라 자기저항비도 증가하였다. 제작된 모든 시편은 비정질구조를 나타내었다. We have investigated the magnetoresistance ratio on the influence of film thickness and range of sample composition about Ni_1-xFe_x Thin Film produced by DC Magnetron Sputtering. The range of sample composition was controlled by the number of Fe chips, and the range of deposited film was 400Å to 1600Å. Target formation was the improved mosaic type, and magnetoresistance ratio measured by 4-point probe method. The magnetoresistance ratio was increased with the increase of film thickness, and the magnetoresistance ratio was varied with sample composition. All samples were showed amorphous structure.