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      • EAS(Enterprise Application Software) 프로젝트 일정 지연 예방 방법에 관한 연구

        박창모,강창욱 한국프로젝트경영학회 2013 한국프로젝트경영연구 Vol.3 No.1

        프로젝트 경영이라는 요소가 새로운 가치를 창출하고, 기업의 경쟁력을 높일 수 있는 요소로서 중요성이 부각됨에 따라 본 연구에서는 실제로 기업에서 프로젝트관리 프로세스에 참여한 프로젝트 관리자, 프로젝트 팀원들을 대상으로 심층면접(in-depth interview)을 통해 프로젝트 관리 프로세스가 어떻게 진행되는지 알아보았다. 또한 프로세스 단계별 이들의 상호 역할과 커뮤니케이션에 대해서 파악하였다. 연구 결과, 기업 내부적으로 정립되어 있는 프로젝트 관리 프로세스는 프로젝트의 성격과 범위, 보유 기술의 성격, 기술의 변화, 시장의 경쟁 상태 등에 따라 맞춤식으로 운영이 되고 있었다. 또한 운영되는 프로젝트 관리 프로세스별로 프로젝트 관리자와 팀원들의 협업과 커뮤니케이션은 변화가 있었다. 과거에 비해 기업 내부적으로 프로젝트 관리 프로세스에 있어서 관립자의 역할 중요성에 대한 인식은 많이 바뀌었으며, 프로젝트 관리 프로세스 전 과정에 걸쳐 팀원들의 프로젝트 관리 프로세스 아이디어 제안 비율과 프로젝트 주도에 있어서 참여도가 높아졌음을 알 수 있었다. 이러한 결과는 향후 기업들이 디자인 경쟁력 확보를 위해 프로젝트 관리자와 프로젝트 팀원들 간의 상호 의존성을 높이고, 상호 가이드 역할을 수행하기 위해 지속적으로 노력해야 함을 시사하고 있으며, 조직적으로 프로젝트에 대한 사고의 전환을 위하여 장기적인 투자를 필요로 함을 의미한다.

      • 절대신앙,절대사랑,절대복종의 성(誠)

        박창모 세계기독교통일신령협회 2003 統一世界 Vol.- No.7

        하나님께서는 말씀으로 천지를 창조하셨다는 것을 우리는 알고 있다. 또한 인간시조인 아담과 하와도 말씀을 불신하고, 불순종함으로 말미암아 결국 타락했다는 사실도 안다. 이제 인류구원을 위한 복귀섭리역사도 역시 말씀으로 재창조 받아야만 된다는 것도 원리 말씀을 통해서 알고 있는 사실이다.

      • 월드컵과 남북통일

        박창모 세계기독교통일신령협회 2002 統一世界 Vol.- No.1

        인간은 누구나 할것 없이 각자의 인생을 살아간다.그런데 인생은 여러번 사는것이 아니고 단한번의 삶으로 마치는 것이다.그렇기 때문에 인생은 연습이 아닐 뿐아니라 두번 다시 오지 않는 삶을 가치있고 보람되게 살아감으로써 성공적인 일생을 살아야 한다.또한 인생을 살다보면 거의 누구에게나 세번 정도의 기회가 온다고 한다.이 세번 가운데 한번만이라도 잘 활용한다면 성공적인 인생을 살 수있다.그러나 이러한 사실을 깨닫지 못하고 살아간다면 결국 실패한 사람이 될 수 밖에 없을 것이다.우리나라에 주어진 첫번째 기회였던 88올림픽은 성공적으로 개최함으로써 우리나라가 전 세계적으로 인정받는 계기가 됐다.따라서 우리나라에 주어진 두 번째 기회인 월드컵 대회도 얼마 남지 않은 기간동안 잘 준비하고 협력해 훌륭하게 개최함으로써 세계화시대에서 국제적인 지지를 확고하게 함으로써 남북통일의 분위기를 조성하는 기반이 될 수있도록 연결시켜야 할 것이다.이렇게만 된다면 우리 민족의 숙원인 남북통일도 훨씬 더 앞당길 수있을 것이다.그렇기 때문에 월드컵의 성공적인 개최는 곧 바로 남북통일의 지름길이요 징검다리가 될 것이다.이제 우리 모두가 한 마음 한 뜻으로 관심을 갖고 지혜를 모아서 월드컵을 대성공으로 이끌어 다시 한번 한 민족의 저력을 전 세계에 보여주기를 간절히 소망해 본다.또한 그렇게 돼 제2의 한강의 기적이 창출될 것이라 확신한다.왜냐하면 우리나라는 원래 하나님께서 택해 주신 천민이기 때문이다.

      • 남북통일과 세계평화의 초석이 될 금강산 관광

        박창모 세계기독교통일신령협회 2005 統一世界 Vol.- No.7

        몇 년 전, 금강산 관광을 다녀왔었다. 남북통일운동국민연합 임원들을 중심하고, 남북통일을 기원하는 뜻을 가지고 관광에 나선 것이다. 그때는 유람선을 타고 동해바다를 경유하여 다녀올 때였다. 육지에서만 생활하다가 오랜만에 배를 타고 다녀온다는 것도 매우 좋게 생각되었다. 그것도 50여년이 넘게 분단돼, 오도가도 못하던 남북관계가 금강산 관광을 통하여 열리게 된 것이라 생각하니 엄청난 희열감을 느꼈다.

      • EAS(Enterprise Application Software) 프로젝트 일정 지연 예방 방법에 관한 연구

        박창모,강창욱 한국프로젝트경영학회 2012 한국프로젝트경영학회 학술대회 Vol.2012 No.1

        본 연구는 기업에서 사용하는 Application을 통칭하는 EAS(Enterprise Application Software) 프로젝트에서 개발 소일정의 일정 지연 요소를 적시에 판단할 수 있는 기법인 ‘연속적(Continuous Type) 소일정 관리 기법’을 소개하였다. 본 연구의 수행 목적은 ‘연속적(Continuous Type) 소일 정 관리 기법’을 적용하여 개발 및 테스트 공정에서의 일정지연 위험 요소를 적시에 파악하여 대 응함으로써 전체 프로젝트 일정 준수율을 향상 하고자 하는 것이다. 학계에서는 EVM(Earned Value Management), CCPM(Critical Chain Project Management) 등의 많은 연구를 통해 프로젝 트 일정 준수율 향상을 위한 방법을 제안하고 실행해 왔지만, 아직도 프로젝트 일정 준수율은 미 흡한 수준으로 남아 있다. 국/내외에서 다수의 EAS 프로젝트 PM을 수행하면서 전체 프로젝트의 일정 준수 여부를 위협하는 가장 큰 위험 요인으로 관리되어 왔던 것은 개발 및 테스트 공정의 일정관리 준수 여부이다. 본 연구 과정을 통해 EAS 프로젝트에 대한 ‘연속적(Continuous Type) 소일정 관리 기법’의 적용 방법 등을 연구하였고, 실제 프로젝트 사례에 적용하여 결과를 분석하 였다. 분석 사례를 통해 ‘연속적 (Continuous Type) 소일정 관리 기법’의 적용은 개발 공정에서 의 진척 실적 평가 등에 대한 객관적 기준을 제시하였고, 주요 공정의 지연 요소에 대한 조기 인지 및 사전 대응 등의 효과가 나타남을 알 수 있었다.

      • 21일만의 기적

        박창모 세계기독교통일신령협회 2001 統一世界 Vol.- No.6

        2010년 4월 12일 오후 늦은 시간이었다. 교구본부로부터 세 사람의 입적임지 일본부인 대원이 도착했다. 이분들은 지난 3월 1일 광복 82주년을 기념하여조국광복을 위한 출정식 행사에 참석한 사람들이었다.

      • KCI등재후보

        X-선 노광용 마스크 제작공정에 관한 연구

        박창모,우상균,이승윤,안진호 한국마이크로전자및패키징학회 2000 마이크로전자 및 패키징학회지 Vol.7 No.2

        X-선 노광용 마스크의 재료로서 SiC와 Ta박막을 각각 ECR플라즈마 CVD, 스퍼터링 장비를 이용하여 증착한 뒤 잔류응력, 미세구조, 표면상태, 그리고 화학적 결합상태 등을 조사하였고, ECR etching system을 이용하여 Ta박막 미세 식각 특성을 연구하였다. SiC박막은 $N_2$분위기에서 RTA를 통하여 X-선 투과막 물질로서 필요한 적절한 인장응력을 변화 시킬 수 있었고, 공정 압력을 조절하여 증착한 Ta박막은 높은 밀도와 우수한 표면 평활도를 가지고 시간과 온도에 따른 응력의 안정성이 좋은 X-선 흡수체를 증착할 수 있었다. 또한 Cl 플라즈마는 흡수체 물질 Ta에 대해 좋은 식각특성을 보였고, two-step 식각을 통해 microloading effect를 억제함으로써 0.2 $\mu\textrm{m}$이하의 미세패턴을 식각해 낼 수 있었다. X-ray lithography mask with SiC membrane and Ta absorber patterns has been fabricated using ECR plasma CVD, d.c. magnetron sputtering, and ECR plasma etching. The stress of stoichiometric SiC film was adjusted by rapid thermal annealing under $N_2$, ambient. Adjusting the working pressure during sputtering process resulted in a near-zero residual stress, reasonable density, and smooth surface morphology of Ta film. Cl-based plasma showed a good etching characteristics of Ta, and two-step etching process was implemented to suppress microloading effect fur sub-quarter $\mu\textrm{m}$ patterning.

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