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마대영,김기원 대한전자공학회 1984 전자공학회지 Vol.21 No.6
다결정 반도체의 전도모델로써 grain boundary와 표면에서 일어나는 band-bending을 가정하였다. 이 가정에 경계면에서 일어나는 트랩핑을 고려한 새로운 박막 트랜지스터의 전도이론을 제시하였다. S1O2를 절연체로 사용한 CdSe 박막 트랜지스터를 제조하고 그 특성을 측정하였다. 이때 CdSe는열 증착하였으며 SiO2는 고주파 스펏터링 하였다. 이론으로 구한 박막 트랜지스터의 출력곡선과 측정에 의한 실험치를 비교 및 검토하였다. Band headings, at grain boundary and surface of polycrystalline thin semiconductor films, were assumed. thin film ransistor conduction theory which considered trapping at surface of semiconductor was proposed. CdSe Thin Film Transistors were fabricated. CdSe was thermal evaporated and SiO2 used as insulator was rf sputtered. Output characteristics which was calculated by conduction theory were compared with experimental results.
Zinc Tin Oxide 투명 박막트랜지스터의 특성에 미치는 활성층 두께의 영향
마대영,Ma, Tae Young 한국전기전자재료학회 2014 전기전자재료학회논문지 Vol.27 No.7
Transparent thin film transistors were fabricated on $n^+$-Si wafers coated by $Al_2O_3/SiO_2$. Zinc tin oxide (ZTO) films deposited by rf magnetron sputtering were employed for active layers. The mobility (${\mu}s$), threshold voltage ($V_T$), and subthreshold swing (SS) dependances on ZTO thickness were analyzed. The $V_T$ decreased with increasing ZTO thickness. The ${\mu}s$ raised from $5.1cm^2/Vsec$ to $27.0cm^2/Vsec$ by increasing ZTO thickness from 7 nm to 12 nm, and then decreased with ZTO thickness above 12 nm. The SS was proportional to ZTO thickness.
Zinc-acetate 직접 가열에 의한 ZnO막의 제조 및 산소분위기 영향
마대영,이수철,김상현,박기철,김기완 한국전기전자재료학회 1995 電氣電子材料學會誌 Vol.8 No.4
ZnO films have been grown easily with the conventional thermal evaporation method on SiO$\_$2/ coated Si wafers. Anhydrous zinc acetate has been used as evaporation source. Zinc-acetate was directly heated in the laboratory-made brass boat. Zinc-acetate was sublimed at the boat temperature of about 220.deg. C. The substrates were heated to 600.deg. C with home made tantalium heater. Oxygen has been flowed into the deposition chamber to change the partial pressure of oxygen. X-ray diffraction patterns showed all the films to be amorphous. The films deposited at high oxygen pressure exhibit higher resistivity than films at low pressure. Energy dispersive spectroscopy(EDS) and rutherford backscattering spectrometry(RBS) were conducted on the films to reveal the composition of the ZnO films.
粒界에서의 터널링으로 解析한 薄膜트랜지스터의 電流-電壓 特性
마대영,Ma, Tae-Young 대한전자공학회 1989 전자공학회논문지 Vol. No.
多結晶 薄膜트랜지스터의 電界效果 解析을 위한 物理的인 모델을 제시하였다. 본 논문의 모델에서는 粒子(grain) 하나를 單結晶 트랜지스터로 粒界(grain boundary)를 電位障壁을 갖는 絶緣體로 가정하였다. 따라서 多結晶 薄膜트랜지스터 粒子인 單結晶 트랜지스터들이 粒界를 경계로 직렬연결 되어 있는 것으로 간주하였으며, 粒子에 흐르는 電流는 gradual channel 근사식으로 또 粒界에 흐르는 電流는 터널링 이론으로 계산하였다. 出力特性과 비교하므로써 채널에서의 電位, 電界분포 등을 구하였으며 이결과들을 통해 본 모델을 검토하였다. 본 논문에서 제시한 다결정박막트랜지스터의 전도모델이 문턱전압이상의 素子동작해석에 타당함을 밝혔다. A physical model that characterizes the field effect of the polycrystalline thin film transistor(TFT) is developed. The model discribes grains as discrete single crystal transistors and grain boundaries as insulated layers having the potential barrier, Thus TFT is considered as serial connection of single crystal transistors and insulators. In the model, the currents in the grain and the grain boundary is calculated using gradual channel approximation and tunneling theory, respetively. By comparing computed I-V characteristics with measured I-V characteristics of CdSe TFT's, potential and electric field distributions in the channel are observed and the validity of the conduction model proposed in this paper is confirmed.
마대영,김진섭,곽병화,Ma, Dae-Yeong,Kim, Jin-Seop,Gwak, Byeong-Hwa 한국전자통신연구원 1987 전자통신 Vol.9 No.1
SOI(Silicon-On-Insulator)는 차세대 VLSI 구조로서 최근 중요한 연구개발 대상이 되고 있다. SOI의 제조기술을 크게 recrystallization, ELO, FIPOS 및 SIMOX로 나누고 이들 각 기술에 대한 고찰을 하였다. 향후 전반적인 SOI 제조기술 개발방향은 SOI면적 확장 및 결함 감소를 위한 것이 될 것이다.