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Metastable Effects Induced by Thermal Quenching in Undoped Amorphous-Silicon
Meaudre-M,Jensen-P,Meaudre-R unknown 1991 Philosophical Magazine B Vol.63 No.4
Metastable Defect Creation and Annealing Under Illumination in Intrinsic Hydrogenated Amorphous-Silicon Deposited from Helium Silane Mixtures
Vignoli-S,Meaudre-R,Meaudre-M unknown 1996 Philosophical Magazine B Vol.73 No.2
Some Electronic and Metastability Properties of a New Nanostructured Material - Hydrogenated Polymorphous Silicon
Butte-R,Meaudre-R,Meaudre-M,Vignoli-S,Longeaud-C,K unknown 1999 Philosophical Magazine B Vol.79 No.7
Structural properties and recombination processes in hydrogenated polymorphous silicon
Meaudre, R., Butte, R., Vignoli, S., Meaudre, M., EDP SCIENCES 2003 EPJ APPLIED PHYSICS Vol.22 No.3
Use of a small-voltage electrical response to measure sodium motion in rf sputtered SiO2 films
M. Meaudre, R. Meaudre, A. Deguin North-Holland 1979 Journal of non-crystalline solids Vol.33 No.3
Thermal Quenching and Relaxation in Doped Hydrogenated Amorphous Silicon Deposited by Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition from He-Diluted Silane
Meaudre, R.,Meaudre, M.,Cabarrocas, P. Rocai American Institute of Physics 1993 Applied Physics Letters Vol.62 No.6
High field variable range hopping of hole-like polarons in RF sputtered SiO2 films
M. Meaudre, R. Meaudre, J.J. Hauser North-Holland 1983 Journal of non-crystalline solids Vol.58 No.1
Electrical transport in RF-sputtered SiO2 films A review
M. Meaudre, R. Meaudre North-Holland 1984 Journal of non-crystalline solids Vol.68 No.2-3
Low electric field Poole-Frenkel effect in r.f.-sputtered SiO2 films
M. Meaudre, R. Meaudre Elsevier BV * North-Holland 1979 Thin Solid Films Vol.61 No.1
Distribution of the midgap density of states and their capture cross-sections in hydrogenated amorphous silicon deduced from space-charge-limited conduction in the dark and under illumination
Meaudre, R., Meaudre, M. TAYLOR & FRANCIS LTD 2005 Philosophical magazine letters Vol.85 No.4
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