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In situ Bandgap Determination of the GaAsN Nanolayer Prepared by Low-Energy \documentclass[12pt]{minimal} \usepackage{amsmath} \usepackage{wasysym} \usepackage{amsfonts} \usepackage{amssymb} \usepackage{amsbsy} \usepackage{mathrsfs} \usepackage{upgreek} \setlength{\oddsidemargin}{-69pt} \begin{document}$${\text{N}}_{2}^{ + }$$\end{document}Ion Implantation
Mikoushkin, V. M. Springer Nature 2019 Semiconductors Vol.52 No.16
Size confinement effect in graphene grown on 6H-SiC (0001) substrate
Mikoushkin, V.M., Shnitov, V.V., Lebedev, A.A., Le Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2015 Carbon Vol.86 No.-
Сomposition Depth Profiling of the GaAs Native Oxide Irradiated by an Ar+ Ion Beam
Mikoushkin, V. M., Bryzgalov, V. V., Makarevskaya, Springer Nature 2019 Semiconductors Vol.52 No.16
J–V Characteristic of p–n Structure Formed on n-GaAs Surface by Ar+ Ion Beam
Mikoushkin, V. M., Kalinovskii, V. S., Kontrosh, E Springer Nature 2019 Semiconductors Vol.53 No.14
Composition and Band Structure of the Native Oxide Nanolayer on the Ion Beam Treated Surface of the GaAs Wafer
Mikoushkin, V. M., Bryzgalov, V. V., Nikonov, S. Y Springer Nature 2018 Semiconductors Vol.52 No.5
Quantum Well on the n-GaAs Surface Irradiated by Argon Ions
Mikoushkin, V. M. Springer Nature 2018 JETP Letters Vol.107 No.4
Electron-stimulated reduction of the surface of graphite oxide
Mikoushkin, V. M., Kriukov, A. S. Springer Science + Business Media 2016 TECHNICAL PHYSICS LETTERS C/C OF PIS'MA V ZHURNAL Vol.42 No.4
Electron binding energy XPS control of n-GaAs with the atomically clean surface etched by Ar+ ions
Mikoushkin, V.M., Makarevskaya, E.A., Novikov, D.A Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2022 Vacuum Vol.197 No.-
Arsenic Diffusion in the Natural Oxidation of the Heavily Defected GaAs Surface
Mikoushkin, V. M., Solonitsyna, A. P., Makarevskay Springer Nature 2019 Semiconductors Vol.53 No.14
Modification of the GaAs native oxide surface layer into the layer of the Ga2O3 dielectric by an Ar+ ion beam
Mikoushkin, V.M., Bryzgalov, V.V., Makarevskaya, E Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2018 Surface & Coatings Technology Vol.344 No.-
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