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The reliability of measurements on electron energy distribution function in silane rf glow discharges
Kui-Xun, L., Xuan-Ying, L., Ling-Fei, C., Chu-Ying GORDON AND BREACH 2003 CHINESE PHYSICS -BEIJING- Vol.12 No.2
Spatial distribution of SiCl~n (n=0-2) in SiCl~4 plasma measured by mass spectroscopy
Zhao-Kui, W., Kui-Xun, L., Yan-Hui, L., Xuan-Ying, GORDON AND BREACH 2006 CHINESE PHYSICS -BEIJING- Vol.15 No.10
Rapid crystallization of a-Si films at low temperatures and structure analyses of the crystallized films
Kui-Xun, L., Xuan-Ying, L., Hou-Yun, L., Ling-Fei, KEXUE CHUBANSHE 2002 ACTA PHYSICA SINICA -CHINESE EDITION- Vol.51 No.4
A new method of measuring the spatial distribution of depletion fraction of silane plasma by mass spectrometer
Zhao-Kui, W., Kui-Xun, L., Xuan-Ying, L., Gui-Ming GORDON AND BREACH 2005 CHINESE PHYSICS -BEIJING- Vol.14 No.7
Aluminum-induced rapid crystallization of a-Si films at low temperatures in an electric field and microstructure analyses of the crystallized films
Yi-Kuang, C., Kui-Xun, L., Zhi, L., Rui-Sheng, L. KEXUE CHUBANSHE 2004 ACTA PHYSICA SINICA -CHINESE EDITION- Vol.53 No.2
Spatial distribution of electron characteristic in argon rf glow discharges
Zu-Song, Z., Kui-Xun, L., Xuan-Ying, L., Gui-Ming, GORDON AND BREACH 2006 CHINESE PHYSICS -BEIJING- Vol.15 No.5
7830 Raman analysis of microstructure of polycrystalline silicon films deposited at low-temperatures from SiCl~4 - H~2
Xuan-Ying, L., Chuang-Jun, H., Kui-Xun, L., Yun-Pe KEXUE CHUBANSHE 2004 ACTA PHYSICA SINICA -CHINESE EDITION- Vol.53 No.5
Effect of hydrogen dilution on structure and optical properties of polycrystalline silicon films
Rui, H., Xuan-Ying, L., Yun-Peng, Y., Kui-Xun, L. KEXUE CHUBANSHE 2006 ACTA PHYSICA SINICA -CHINESE EDITION- Vol.55 No.5
8110B Control of grain size during low-temperature growth of polycrystalline silicon films
Rui, H., Xuan-Ying, L., Yun-Peng, Y., Kui-Xun, L. KEXUE CHUBANSHE 2004 ACTA PHYSICA SINICA -CHINESE EDITION- Vol.53 No.11
The light-stability of polycrystalline silicon films deposited at low temperatures from SiCl~4/H~2 mixture
Zu-Song, Z., Xuan-Ying, L., Yun-Peng, Y., Kui-Xun, KEXUE CHUBANSHE 2005 ACTA PHYSICA SINICA -CHINESE EDITION- Vol.54 No.8
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