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Growth and Morphology of Ceria on Ruthenium (0001)
Kaemena, B., Senanayake, S.D., Meyer, A., Sadowski AMERICAN CHEMICAL SOCIETY 2013 The Journal of Physical Chemistry Part C Vol.117 No.1
Silicate-free growth of high-quality ultrathin cerium oxide films on Si(111) (9 pages)
Flege, J.I., Kaemena, B., Gevers, S., Bertram, F. AMERICAN PHYSICAL SOCIETY 2011 Physical Review B Vol.84 No.23
Ultrathin, epitaxial cerium dioxide on silicon (4 pages)
Flege, J.I., Kaemena, B., Hocker, J., Bertram, F. AMERICAN INSTITUTE OF PHYSICS 2014 Applied Physics Letters Vol.104 No.13
Epitaxial, well-ordered ceria/lanthana high-k gate dielectrics on silicon
Flege, J.I., Kaemena, B., Schmidt, T., Falta, J. AVS, American Institute of Physics 2014 Journal of Vacuum Science & Technology. B Vol.32 No.3
Origin of chemical contrast in low-energy electron reflectivity of correlated multivalent oxides: The case of ceria (7 pages)
Flege, J.I., Kaemena, B., Meyer, A., Falta, J., Se AMERICAN PHYSICAL SOCIETY 2013 Physical Review B Vol.88 No.23
Improved epitaxy of ultrathin praseodymia films on chlorine passivated Si(111) reducing silicate interface formation (3 pages)
Gevers, S., Flege, J.I., Kaemena, B., Bruns, D., W AMERICAN INSTITUTE OF PHYSICS 2010 Applied Physics Letters Vol.97 No.24
Growth mode and oxidation state analysis of individual cerium oxide islands on Ru(0001)
Flege, J. I., Kaemena, B., Senanayake, S. D., Hock Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2013 Ultramicroscopy Vol.130 No.-
Ultrathin, epitaxial cerium dioxide on silicon
Flege, Jan Ingo, Kaemena, Björn, Höcker, Jan, Bert American Institute of Physics 2014 Applied Physics Letters Vol.104 No.13
Mutation of a conserved residue enhances the sensitivity of analogue-sensitised kinases to generate a novel approach to the study of mitosis in fission yeast
Tay, Y.-D., Patel, A., Kaemena, D.F., Hagan, I.M. COMPANY OF BIOLOGIST LTD 2013 Journal of cell science Vol.126 No.21
Growth and characterization of epitaxially stabilized ceria(001) nanostructures on Ru(0001)
Flege, J., Hocker, J., Kaemena, B., Mentes, T. O. Royal Society of Chemistry 2016 Nanoscale Vol.8 No.20
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