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High-Performance Strained Si/SiGe pMOS Devices With Multiple Quantum Wells
Collaert, N., Verheyen, P., De Meyer, K., Loo, R. IEEE 2002 IEEE TRANSACTIONS ON NANOTECHNOLOGY Vol.1 No.4
InP + CMOS Heterogeneous Integration for The Next Generation of Wireless
Collaert, NadinePeeters, Michael Horizon House-Microwave 2022 Microwave Journal Vol.65 No.11
Impact of O2-based plasma strip chemistries on the electrochemical behavior of TiN electrodes for biomedical applications
Collaert, N., Mannaert, G., Paraschiv, V., Goossen Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2012 MICROELECTRONIC ENGINEERING Vol.99 No.-
Fabrication challenges and opportunities for high-mobility materials: from CMOS applications to emerging derivative technologies
Collaert, N., Alian, A., De Jaeger, B., Peralagu, SPIE 2019 Proceedings of SPIE, the International Society for Vol.2019 No.10963
13:55 7A-2 Tall Triple-Gate Devices with TiN/HfO~2 Gate Stack
Collaert, N., Demand, M., Ferain, I., Lisoni, J., Japan Society of Applied Physics 2005 SYMPOSIUM ON VLSI TECHNOLOGY Vol.- No.-
Shift and ratio method revisited: extraction of the fin width in multi-gate devices
Collaert, N., Dixit, A., Anil, K. G., Rooyackers, Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2005 Solid-State Electronics Vol.49 No.5
High performance Si/SiGe pMOSFETs fabricated in a standard CMOS process technology
Collaert, N., Verheyen, P., De Meyer, K., Loo, R. Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2003 Solid-State Electronics Vol.47 No.7
Multi-gate devices for the 32 nm technology node and beyond: Challenges for Selective Epitaxial Growth
Collaert, N., Rooyackers, R., Hikavyy, A., Dixit, Elsevier Science B.V., Amsterdam. 2008 Thin Solid Films Vol.517 No.1
Immediate functional loading of TiOblast dental implants in full-arch edentulous maxillae: a 3-year prospective study
Collaert, B., De Bruyn, H. Blackwell Publishing Ltd 2008 Clinical oral implants research Vol.19 No.12
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