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전자 사이클로트론 공명 플라즈마 화학적 기상 증착 장치에서의 수소 플라즈마 특성연구
김우준(Woo-Jun Kim),구자춘(Ja-Chun Ku),황기웅(Ki-Woong Whang) 한국진공학회(ASCT) 1994 Applied Science and Convergence Technology Vol.3 No.3
Electron cyclotron resonance plasma chemical vapor deposition(ECRPCVD) 장치에서 공정변수에 따른 수소 플라즈마 특성을 조사하였다. 균일한 플라즈마 밀도를 얻기 위하여 전자공명층이기판과 평행하게 형성되도록 정자장 코일을 설계하였으며, 기판근처에 부가적으로 형성된 multicusp field에 의해서 기판 근처에서의 플라즈마 균일도를 개선시킬 수 있었다. 또한, 절연된 공진실과 기판에의 독립적인 DC bias에 의해서 기판으로 입사하는 하전입자들의 에너지와 유량을 조잘할 수 있었다. 이러한 플라즈마 특성을 갖는 ECRPCVD장치를 다양한 특성을 갖는 박막 합성에 응용할 수 있으리라 사료된다 The characteristics of the hydrogen plasma were investigated as functions of the process parameters in the electron cyclotron resonance plasma chemical vapor deposition(ECR-PCVD) system. The external magnet coils was designed such that ECR layer is parallel to the substrate to obtain a uniform plasma density, and the uniformity was improved by the additional multicusp field near the substrate. By the applications of independent DC biases to the cavity and the substrate, the energy and the flux of the charged particles in the plasma could be controlled. It is thought that this ECRPCVD system can be applied to the large and uniform coating having various properties.