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      SiC Substrate Effects on Electron Transport in the Epitaxial Graphene Layer

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      https://www.riss.kr/link?id=A105872147

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      다국어 초록 (Multilingual Abstract)

      Hall effect measurements on epitaxial graphene (EG) on SiC substrate have been carried out as a function of temperature. The mobility and concentration of electrons within the two-dimensional electron gas (2DEG) at the EG layers and within the underly...

      Hall effect measurements on epitaxial graphene (EG) on SiC substrate have been carried out as a function of temperature. The mobility and concentration of electrons within the two-dimensional electron gas (2DEG) at the EG layers and within the underlying SiC substrate are readily separated and characterized by the simple parallel conduction extraction method (SPCEM). Two electron carriers are identified in the EG/SiC sample: one highmobility carrier (3493 cm2/Vs at 300 K) and one low-mobility carrier (1115 cm2/Vs at 300 K). The high mobility carrier can be assigned to the graphene layers. The second carrier has been assigned to the SiC substrate.

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      참고문헌 (Reference)

      1 C. Casiraghi, 91 : 233108-, 2007

      2 J. C. Burton, 59 : 7282-, 1999

      3 A. K. Geim, 6 : 183-, 2007

      4 A. H. C. Neto, 81 : 109-, 2009

      5 F. Rana, 7 : 91-, 2008

      6 Y. -M. Lin, 9 : 422-, 2009

      7 T. Lohmann, 9 : 1973-, 2009

      8 J. Hass, 20 : 323202-, 2008

      9 K. I. Bolotin, 101 : 096802-, 2008

      10 F. Varchon, 99 : 126805-, 2007

      1 C. Casiraghi, 91 : 233108-, 2007

      2 J. C. Burton, 59 : 7282-, 1999

      3 A. K. Geim, 6 : 183-, 2007

      4 A. H. C. Neto, 81 : 109-, 2009

      5 F. Rana, 7 : 91-, 2008

      6 Y. -M. Lin, 9 : 422-, 2009

      7 T. Lohmann, 9 : 1973-, 2009

      8 J. Hass, 20 : 323202-, 2008

      9 K. I. Bolotin, 101 : 096802-, 2008

      10 F. Varchon, 99 : 126805-, 2007

      11 X. Li, 324 : 1245-, 2009

      12 K. S. Kim, 457 : 706-, 2009

      13 M. J. Kane, 18 : 5629-, 1985

      14 W. A. Beck, 62 : 541-, 1987

      15 Z. Dziuba, 82 : 2996-, 1997

      16 I. Vurgaftman, 84 : 4966-, 1998

      17 S. B. Lisesivdin, 108 : 013712-, 2010

      18 C. Mavroidis, 91 : 9835-, 2002

      19 S. B. Lisesivdin, 40 : 413-, 2009

      20 A. Yildiz, 98 : 557-, 2010

      21 M. Roschke, 48 : 1442-, 2001

      22 F. Tuinstra, 53 : 1126-, 1970

      23 L. M. Malard, 473 : 51-, 2009

      24 A. C. Ferrari, 97 : 187401-, 2006

      25 Y. Y. Wang, 112 : 10637-, 2008

      26 C. Faugeras, 92 : 011914-, 2008

      27 Z. H. Ni, 77 : 115416-, 2008

      28 J. Röhrl, 92 : 201918-, 2008

      29 Z. H. Ni, 7 : 2758-, 2007

      30 K. S. Novoselov, 306 : 666-, 2004

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      학술지등록 한글명 : Electronic Materials Letters
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      기준연도 WOS-KCI 통합IF(2년) KCIF(2년) KCIF(3년)
      2016 1.68 0.41 1.08
      KCIF(4년) KCIF(5년) 중심성지수(3년) 즉시성지수
      0.89 0.83 0.333 0.06
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