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      연구 논문 : 전기화학적 마이크로머시닝 기술을 이용한 균일한 니오븀 표면 에칭 연구 = RESARCH PAPERS : Homeogenous Etched Pits on the Surface of Nb by Electrochemical Micromachining

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      https://www.riss.kr/link?id=A99956507

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      국문 초록 (Abstract)

      본 연구에서는 micro-contact printing을 통하여 니오븀 호일 표면 위에 균일한 에칭 pits를 형성하였다. 균일한 보호층을 형성하고자 전해연마의 효과를 확인하였으며, 기존의 O2 플라즈마 공정 없...

      본 연구에서는 micro-contact printing을 통하여 니오븀 호일 표면 위에 균일한 에칭 pits를 형성하였다. 균일한 보호층을 형성하고자 전해연마의 효과를 확인하였으며, 기존의 O2 플라즈마 공정 없이 손쉽게 균일한 에칭 pits를 형성시킬 수 있는 조건을 확인하였다. 메탄올 혼합 전해질을 사용하여 10 min 동안 에칭을 진행한 결과 니오븀 호일 표면 위에 지름과 간격이 각각 10 μm와 5 μm로 잘 정렬된 에칭 pits를 관찰하였다.

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      다국어 초록 (Multilingual Abstract)

      We describe the preparation of highly-ordered etching pits on the Nb foil through a micromachining. The effects of electro-chemical polishing on the formation of uniformly-patterned protective epoxy layer was investigated. Unlike the previous proc-ess...

      We describe the preparation of highly-ordered etching pits on the Nb foil through a micromachining. The effects of electro-chemical polishing on the formation of uniformly-patterned protective epoxy layer was investigated. Unlike the previous proc-ess using O2 plasma, well-ordered etched pits were prepared without any dry processes. As a result, the Nb foil with the well-ordered pits of 10 μm × 5 μm could be obtained by electrochemical etching in methanolic electrolytes for 10 min.

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      참고문헌 (Reference)

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      10 A. P. Malshe, "Investigation of nanoscale electro machining (nano-EM) in dielectric oil" 54 : 175-, 2005

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      3 M. Datta, "Recent advances in the study of electrochemical micromachining" 118 : 29-, 1996

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      5 S. C. Jakeway, "Miniaturized total analysis systems for biological analysis" 366 : 525-, 2000

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      2020-01-01 평가 등재학술지 유지 (해외등재 학술지 평가) KCI등재
      2013-12-01 평가 SCOPUS 등재 (등재유지) KCI등재
      2011-01-01 평가 등재학술지 유지 (등재유지) KCI등재
      2010-02-19 학술지명변경 외국어명 : Journal of the Korean Industrial and Engineering Chemistry -> Applied Chemistry for Engineering KCI등재
      2009-04-28 학술지명변경 외국어명 : Jpurnal of the Korean Industrial and Engineering Chemistry -> Journal of the Korean Industrial and Engineering Chemistry KCI등재
      2009-01-01 평가 등재학술지 유지 (등재유지) KCI등재
      2007-01-01 평가 등재학술지 유지 (등재유지) KCI등재
      2005-01-01 평가 등재학술지 유지 (등재유지) KCI등재
      2002-01-01 평가 등재학술지 선정 (등재후보2차) KCI등재
      1999-07-01 평가 등재후보학술지 선정 (신규평가) KCI등재후보
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      기준연도 WOS-KCI 통합IF(2년) KCIF(2년) KCIF(3년)
      2016 0.32 0.32 0.34
      KCIF(4년) KCIF(5년) 중심성지수(3년) 즉시성지수
      0.33 0.33 0.45 0.05
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