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      Electroforming을 이용하여 제조한 Ni 기판의 기계적 특성 및 내마모 거동 분석 = Characterizations of the Mechanical Properties and Wear Behavior of Ni Plate Fabricated by the Electroforming Process

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      https://www.riss.kr/link?id=A105148546

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      다국어 초록 (Multilingual Abstract)

      We fabricated the Ni plate by electroforming process and evaluated the microstructure, mechanical properties and wear behavior of the Ni plate. Specifically, the effects of addition of wetting agents, SF 1 and SF 2 solutions, on the microstructure and...

      We fabricated the Ni plate by electroforming process and evaluated the microstructure, mechanical properties and wear behavior of the Ni plate. Specifically, the effects of addition of wetting agents, SF 1 and SF 2 solutions, on the microstructure and properties were investigated. The microstructure and surface morphology were characterized by transmission electron microscopy (TEM) and atomic force microscopy (AFM), respectively, and friction coefficient was measured by the ball-on-disk method. We found that the microstructure and mechanical properties of Ni plate were changed with kind and amount of wetting agents used. The hardness and tensile strength of Ni plate formed without wetting agents was 228 Hv and 660.7 MPa, respectively, whiled when wetting agent was added, those were improved to be 739 Hv and 1286.3 MPa. These improvements were probably due to the finer grain size and less crystallization of Ni. In addition, when both wetting agents were added, the friction coefficient was reduced from 0.73 to 0.67 which is partially caused by the improved hardness and smooth surface.

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      참고문헌 (Reference)

      1 "ASM Specialty Handbook: Nickel, Cobalt, and Their Alloys" USA 19-, 2000

      2 "3rd International Conference on Microwave and Millimeter Wave Technology" Beijing, China 30-, 2002.08

      1 "ASM Specialty Handbook: Nickel, Cobalt, and Their Alloys" USA 19-, 2000

      2 "3rd International Conference on Microwave and Millimeter Wave Technology" Beijing, China 30-, 2002.08

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      2020-01-01 평가 등재학술지 유지 (해외등재 학술지 평가) KCI등재
      2014-03-01 평가 SCOPUS 등재 (기타) KCI등재
      2011-01-01 평가 등재학술지 유지 (등재유지) KCI등재
      2009-01-01 평가 등재학술지 유지 (등재유지) KCI등재
      2007-01-01 평가 등재학술지 유지 (등재유지) KCI등재
      2005-01-01 평가 등재학술지 유지 (등재유지) KCI등재
      2002-01-01 평가 등재학술지 선정 (등재후보2차) KCI등재
      1999-07-01 평가 등재후보학술지 선정 (신규평가) KCI등재후보
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      학술지 인용정보

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      기준연도 WOS-KCI 통합IF(2년) KCIF(2년) KCIF(3년)
      2016 0.15 0.15 0.14
      KCIF(4년) KCIF(5년) 중심성지수(3년) 즉시성지수
      0.14 0.13 0.255 0.03
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