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        광고교육에 대한 광고실무자와 대학생 간 인식차이에 관한 연구

        염성원(Sung Won Yeom),한승수(Seung Soo Han) 한국광고홍보학회 2005 한국광고홍보학보 Vol.7 No.4

        광고업계의 급속한 성장에 발맞춰 대학에서의 광고학과 역시 양적인 성장을 거듭해왔다. 그러나 이 같은 양적인 성장에 비해 광고 교육과정과 졸업생의 광고업계 진출 등 질적인 향상은 아직 해결해야 할 과제로 남아있다. 따라서 본 연구에서는 대학에서의 광고교육에 대한 이해당사자 집단 간 인식의 차이를 규명하고자 했다. 이것은 두 집단 간의 인식차이를 규명함으로써, 실제 광고업계에서 원하는 광고교육과 대학생이 인식하는 교육의 방향을 비교하는 것은 물론, 광고학과 교육과정의 질적인 개선을 위한 단서를 제공할 것으로 기대할 수 있기 때문이다. 그리고 두 집단 간의 인식의 차이와 일치 정도를 규명하기 위해 상호지향성 모델을 적용했다 광고교육에 대한 두 집단 간 인식지형을 규명하기 위해 대학생 145명과 광고업계에 종사하는 실무자 122명을 대상으로 설문조사를 실시했다. 조사결과, 대학에서의 광고교육 전반에 대한 두 집단 간 차이는 비교적 크게 나타나고 있었다. 물론, 광고교육이 광고산업의 발전과 밀접한 관련성을 갖고 있다는 데에는 두 집단 간 인식의 공통된 지향점이 발견되기는 했으나, 광고교육의 질, 실무와 이론의 조화, 광고관련학과 전공자의 실무적응력에 대한 두 집단의 인식차이는 뚜렷하게 나타나고 있었다. 반면, 광고 인으로서의 자질에 대해서는 유사하게 인식하고 있었다. 즉, 광고크리에이티브 능력과 교양적 지식, 그리고 광고관련 이론적 지식 등이 두 집단 모두에게 중요한 것으로 인식되고 있었다. 또한 구체적인 대학 교육과정의 커리큘럼에 대한 인식에서도 두 집단이 유사한 인식지형을 보이고 있었다. 다시 말해 광고업계의 실무와 직접적으로 연관된 커리큘럼(예: 광고기획, 마케팅, 광고제작 등)이 중요한 것으로 인식되고 있었다. 광고학은 광고산업과 밀접한 연관성을 지니고 있으며, 광고업계에서 필요로 하는 인재를 육성할 책임에서 자유롭지 못하다. 그러나 실제로 대학에서의 광고교육의 질은 양적인 성장에 가려있다. 궁극적으로 대학에서의 광고인력 양성은 광고업계의 발전과도 밀접하게 연결되어 있기 때문에, 보다 적극적인 광고업계와의 산학연계를 통한 광고교육의 활성화가 필요하다고 판단된다. 그리고 본 연구의 결과를 통해 광고교육과 관련된 두 이해 당사자 간의 상호이해의 필요성이 입증되었으며, 앞으로 광고 관련 학과 또는 학계와 광고업계 간의 이해증진을 위한 노력이 지속적으로 이뤄져야 할 것으로 보인다. As advertising industry has grown at an alarming pace, universities and colleges have established advertising programs to a great extent in terms of quantity. However, since the universities and the colleges have not emphasized the quality of advertising programs, they confronted problems such as quality of curricula, which contribute to increasing productive skills for better employment. Accordingly, this research purposes to define the perceptional differences that each advertising circle has on the education of advertising in universities and colleges. In other words, this study attempts to compare the education program of advertising, which advertising companies suggest to education institutions, with the program, which college students consider as a desirable program. This research is expected to contribute to provide some important cues for educational institutions to improve the quality of advertising programs. Thus, this study applies co-orientation model for defining the perceptional differences. As for the research design, participants were one hundred and forty five undergraduate students and one hundred and twenty two staff in charge of advertising production. As the result, there is significant perceptional difference between the two groups. While the two groups have a common with the orientation that advertising education is strongly associated with advertising industry, they differ from each other in terms of quality of program combination between theory and practice, and advertising student`s practical skill. On the other hand, the two groups agree on the quality of advertiser. That is, creativity, general education and special knowledge on advertising are taken into account as the primary elements. In addition, the two groups share a similar perceptional configuration on the concrete curricula of advertising program. In other words, such practical programs as advertising plan, marketing and advertising production are considered as important programs. In conclusion, advertising study is so related with advertising industry that it is responsible for training the students in advertising programs. Nonetheless, many universities tend to focus on the quantity rather quality. Since quality advertising programs in universities are strongly associated with the development of advertising industry, this study suggests that academic advertising programs and advertising industry cooperate with each other for improving advertising programs. This research verifies the importance of the cooperation between advertising institution and advertising industry and suggests that the interest groups put continuous effort to improve the quality of advertising programs.

      • KCI등재

        OES를 이용한 질화막/산화막의 식각 스펙트럼 데이터 분석

        박수경,강동현,한승수,홍상진,Park, Soo-Kyoung,Kang, Dong-Hyun,Han, Seung-Soo,Hong, Sang-Jeen 한국전기전자재료학회 2012 전기전자재료학회논문지 Vol.25 No.5

        As semiconductor device technology continuously shrinks, low-open area etch process prevails in front-end etch process, such as contact etch as well as one cylindrical storage (OCS) etch. To eliminate over loaded wafer processing test, it is commonly performed to emply diced small coupons at stage of initiative process development. In nominal etch condition, etch responses of whole wafer test and coupon test may be regarded to provide similar results; however, optical emission spectroscopy (OES) which is frequently utilize to monitor etch chemistry inside the chamber cannot be regarded as the same, especially etch mask is not the same material with wafer chuck. In this experiment, we compared OES data acquired from two cases of etch experiments; one with coupon etch tests mounted on photoresist coated wafer and the other with coupons only on the chuck. We observed different behaviors of OES data from the two sets of experiment, and the analytical results showed that careful investigation should be taken place in OES study, especially in coupon size etch.

      • SCOPUSKCI등재
      • KCI등재

        Support Vector Machine을 이용한 Reactive ion Etching의 Run-to-Run 오류검출 및 분석

        박영국,홍상진,한승수,Park Young-Kook,Hong Sang-Jeen,Han Seung-Soo 한국정보통신학회 2006 한국정보통신학회논문지 Vol.10 No.5

        현재 고밀도 반도체제작 환경에서는 반작용적인 이온 식각 과정(reactive ion etching)에서의 생산성을 극대화하기 위해서 비정상적인 공정장비를 발견하는 것이 매우 중요하다. 생산과정에서 오류발견의 중요성을 설명하기 위해 Support Vector Machine (SVM)은 실시간으로 공정오류에 대한 판단을 위해 사용되었다. 반작용적인 이온 식각도구 데이터는 59개 변수들로 구성된 반도체 공정장비로부터 얻는다. 각각의 변수들은 초당 10개의 데이터로 구성되어있다. 식각 런의 11개의 파라미터에 대한 모델을 만들기 위해 baseline런으로부터 얻은 데이터로 SVM모델을 구성하고 정상 런데이터와 비정상 런데이터로 SVM모델을 검증한다. 통계적 공정제어에서 흔히 이용되는 관리한계를 도입하여 정상데이터가 내재하고 있는 램덤변화율이 반영된 SVM 모델 기반의 관리 한계를 수립하고, 그 관리 한계를 바탕으로 오류발견을 실행한다. SVM을 이용함으로써 RIE의 오류발견은 run to run 기반에 정상 런데이터는 0% 오류율이 증명되었다. To address the importance of the process fault detection for productivity, support vector machines (SVMs) is employed to assist the decision to determine process faults in real-time. The reactive ion etching (RIE) tool data acquired from a production line consist of 59 variables, and each of them consists of 10 data points per second. Principal component analysis (PCA) is first performed to accommodate for real-time data processing by reducing the dimensionality or the data. SVMs for eleven steps or etching m are established with data acquired from baseline runs, and they are further verified with the data from controlled (acceptable) and perturbed (unacceptable) runs. Then, each SVM is further utilized for the fault detection purpose utilizing control limits which is well understood in statistical process control chart. Utilizing SVMs, fault detection of reactive ion etching process is demonstrated with zero false alarm rate of the controlled runs on a run to run basis.

      • SCOPUSKCI등재

        전기화상에서 골스캔의 유용성

        김종순(Jong Soon Kim),한승수(Seung Soo Han),소용선(Yong Seon So),김태형(Tae Hyung Kim),한상웅(Sang Woong Han),권기현(Ki Hyeon Kweon),김석환(Seok Hwan Kim) 대한핵의학회 1996 핵의학 분자영상 Vol.30 No.1

        N/A Bone scan is known to be an effective tool for observing the state of soft tissues and bones of electric bum patients. It is also used for observing the progress of patients after debridement or skin graft as well as determing to amputate specific body parts. To evaluate bone scan's role in electric bum, we analyzed bone scan 37 patients with electric burn. Among the 37 patients, 8 of 37 were injured in low voltage and 29 of them in high voltage. 27 patients received the electrical input through the hand, 6 through the scalp, 2 through the shoulder, 1 through the left chest wall and 1 through the left inguinal area. Among 29 patients received high voltage, 22 patients had the electrical output through the foot, 3 through the hand, 2 through the shoulder, 1 through the buttock and 1 through the left chest wall. Bone scans revealed cellulitis in 37 patients with 47 sites, osteomyelitis in 15 patients with 15 sites & bone defects in 4 patients with 4 sites. In 4 patients with skin graft or skin flap, follow up bone scan showed improvements of bony uptake in preoperatively bony defect area and all of them were healed without complication There were 2 cases in which uptake increased in the myocardium, 1 in the liver and 6 in the kidney, however, ssrum calcium level, EKG, cardiac enzyme, liver and renal function tests were normal. In conclusion, bone scans are helpful in the assessment of injury sites after electrical insult and in differential diagnosis of cellulitis and osteomyelitis. It is also useful tool of assessment after skin graft or skin flap, however, it should be further evaluated about internal organ damage.

      • KCI등재

        PLS와 SVM복합 알고리즘을 이용한 식각 종료점 검출

        이윤근,한이슬,홍상진,한승수,Lee, Yun-Keun,Han, Yi-Seul,Hong, Sang-Jeen,Han, Seung-Soo 한국전기전자재료학회 2011 전기전자재료학회논문지 Vol.24 No.9

        In semiconductor wafer fabrication, etching is one of the most critical processes, by which a material layer is selectively removed. Because of difficulty to correct a mistake caused by over etching, it is critical that etch should be performed correctly. This paper proposes a new approach for etch endpoint detection of small open area wafers. The traditional endpoint detection technique uses a few manually selected wavelengths, which are adequate for large open areas. As the integrated circuit devices continue to shrink in geometry and increase in device density, detecting the endpoint for small open areas presents a serious challenge to process engineers. In this work, a high-resolution optical emission spectroscopy (OES) sensor is used to provide the necessary sensitivity for detecting subtle endpoint signal. Partial Least Squares (PLS) method is used to analyze the OES data which reduces dimension of the data and increases gap between classes. Support Vector Machine (SVM) is employed to detect endpoint using the data after PLS. SVM classifies normal etching state and after endpoint state. Two data sets from OES are used in training PLS and SVM. The other data sets are used to test the performance of the model. The results show that the trained PLS and SVM hybrid algorithm model detects endpoint accurately.

      • KCI등재

        신경망과 유전알고리즘을 이용한 고효율 태양전지 접촉형성 공정 최적화

        정세원,이성준,홍상진,한승수,Jung, Se-Won,Lee, Sung-Joon,Hong, Sang-Jeen,Han, Seung-Soo 한국정보통신학회 2006 한국정보통신학회논문지 Vol.10 No.11

        이 논문은 p-type single-crystalline float zone (FZ) 웨이퍼를 이용한 고효율 태양전지 제조 공정상의 공정 모델링과 최적화 기술에 대하여 서술하였다. 태양전지 제조 공정 중 중요한 4가지의 공정 1) Emitter formation; 2) Anti-Reflection-Coating (ARC): 3) Screen-printing; 4) Contact formation 중에서 제조비용을 줄여주며, 성능을 증대 시키는데 중요한 contact formation 공정을 모델링을 하고, 최적화 하였다. 본 논문에서는 공정에 소요되는 시간과 비용을 줄이기 위해 실험 계획법 (design of experiments: DOE) 중 중심 합성계획 (central composite design)을 이용하여 24개의 요인 (factorial), 8개의 축점 (axial points), 3개의 중심점 (center points)과 실험의 범위를 증가시키기 위한 6개의 임의점(random points)으로 실험계획을 수립하였다. 접촉형성(contact formation) 공정 이후에는 실험 결과를 사용하여 신경망 (neural network)으로 모델링을 하였다. 수립된 신경망 모델을 바탕으로 유전자 알고리즘 (genetic algorithm)을 이용하여 다양한 조합의 공정 파라미 터를 합성하는 방법으로 최적화를 수행하여 고효율의 태양전지를 구현할 수 있는 최적의 공정 조건을 수립하였다. This paper presents modeling and optimization techniques for hish efficiency solar cell process on single-crystalline float zone (FZ) wafers. Among a sequence of multiple steps of fabrication, the followings are the most sensitive steps for the contact formation: 1) Emitter formation by diffusion; 2) Anti-reflection-coating (ARC) with silicon nitride using plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD); 3) Screen-printing for front and back metalization; and 4) Contact formation by firing. In order to increase the performance of solar cells in terms of efficiency, the contact formation process is modeled and optimized using neural networks and genetic algorithms, respectively. This paper utilizes the design of experiments (DOE) in contact formation to reduce process time and fabrication costs. The experiments were designed by using central composite design which consists of 24 factorial design augmented by 8 axial points with three center points. After contact formation process, the efficiency of the fabricated solar cell is modeled using neural networks. Established efficiency model is then used for the analysis of the process characteristics and process optimization for more efficient solar cell fabrication.

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