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이만섭,강민호,Lee, Man-Seop,Gang, Min-Ho 한국전자통신연구원 1987 전자통신 Vol.9 No.2
국내에서 연구 개발되어 현재 사용되고 있는 6Mbit/s 광전송시스팀, 45Mbit/s 광전송시스팀, 90Mbit/s 광전송시스팀의 구성 및 특성을 기술하였다. 6Mbit/s 광전송시스팀은 1:1의 절체구성이 가능하며 최대 중계거리가 다중모드인 경우는 31km, 단일모드인 경우는 35km이다. 45Mbit/s 광전송시스팀은 11 : 1의 절체 구성이 가능하고 텔리메트리를 위하여 동선을 사용하며 최대 중계거리가 다중모드인 LD인 경우 31km, LED 경우는 16km이다. 90Mbit/s 광전송시스팀은 11 : 1의 절체 구성이 가능하며 다양한 성능 감시, 수집, 표시기능이 있고 최대 중계거리가 다중모드 LD인 경우 29km, LED 경우는 14km, 단일모드 LD인 경우는 30.6km이다.
이만섭,김용환,심창섭,Lee, Man-Seop,Kim, Yong-Hwan,Sim, Chang-Seop 한국전자통신연구원 1987 전자통신 Vol.9 No.2
본고에서는 한국전기통신공사의 출연금으로 연구개발된 565Mbit/s 광전송시스팀의 설계 및 특성을 다루었다. 565Mbit/s 광전송시스팀은 DS3 (44.736 Mbit/s) 및 DS4(139.264 Mbit/s) 신호 를 종속신호로 접속할 수 있으며 중계국에서 종속신호의 드롭 및 인서트가 가능하다. 절체 비율이 최대 11 : 1까지 가능하고, 상세한 시스팀 성능감시가 가능하다. 이때의 유지보수 구간은 국내의 여건을 고려하여 600km로 하였다. 설계 된 광송신 출력은 -3dBm이상,수신감도는 BER 10E-9에서 -37.8dBm, 시스팀 마진을 고려한 최대 중계거리는 27km이었다. 현재 이와같은 성능 및 특성은 범용 IC로 설계되고 구현되어 확인되었다. 그리고 565 Mbit/s 광전송시스팀은 시스팀의 신뢰성 제고 및 경제성을 위하여 주문형 반도체화를 추진하고 있으므로 주문형 반도체화가 끝나면 국내의 장거리 시외국간용이나 대용량 시내국간 중계에 대량으로 사용될 것이 예상된다.
이상만(Sang-Man Lee),박준호(Jun-Ho Park),우정식(Jung-Sik Woo),이만섭(Man-Seop Lee) 한국레이저가공학회 2008 한국레이저가공학회 학술대회 논문집 Vol.2008 No.-
Subtractive LDW(laser direct write) on FR4 based printed circuit board (PCB) substrate was used to make circuit pattern on top of surface PCB substrate using a chirped-pulse-amplification Ti:sapphire laser. It was found that laser direct writing method and the treatment of chemical etching could be constructed pattern of circuit with no electroshorting and minimum HAZ (heat affected zone). The minimum width of conductive lines can be reach 50㎛..
이상만(Sang-Man Lee),아메드(Almaid Fraid),박준호(Jun-Ho Park),우정식(Jung-Sik Woo),이만섭(Man-Seop Lee) 한국레이저가공학회 2007 한국레이저가공학회 학술대회 논문집 Vol.2007 No.-
Femtosecond-laser micromachining of CsI(TI) film on glass is investigated using 150fs pulses at 775㎚ from a chirped-pulse-amplification Ti: sapphire laser operating at 3㎑ repetition rate. We investigate the effect of pulse energy, number of laser scans, and focal position on the depth and width morphology of the micromachined regions.