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대기압 저온 플라스마에 의한 ITO(Indium Tin Oxide)박막 식각의 수소(H2)효과
이봉주 대한전자공학회 2002 電子工學會論文誌-SD (Semiconductor and devices) Vol.39 No.8
It is confirmed that the ITO(Indium Tin Oxide) thin films can be etched by low-temperature plasma at atmospheric pressure. The etching happened deepest at a hydrogen flow rate of 4 sccm, and the etch rate was 120Å/ min. The etching speed corresponded to the Hα* emission intensity. The etching mechanism of the ITO thin films is as follows; thin films were reduced by Hα*, and the metal compound residues were detached from the substrate by reacting on the CH*. The etching was started after etching time of initial 50 sec and above the threshold temperature of 145 ℃. The activation energy of 0.16 eV(3.75 Kcal/mole) was obtained from the Arrehenius plots. 산화인듐(ITO)박막은 대기압 저온 플라스마에 의해 식각이 가능하다는 것을 확인했다. 식각은 수소유량 4 sccm에서 가장 깊게 발생하여, 120Å/min를 나타내었다. 식각속도는 Hα*의 발광강도와 대응하였다. ITO 박막의 식각 메커니즘은 Hα*에 의해 환원이 된후, 남게 된 금속 화합물은 CH*과 반응하여 기판으로부터 이탈한다고 생각된다. 식각은 식각시간 50초 이상에서부터, 기판온도145℃ 이상부터 발생하기 시작하였다. 활성화 에너지는 Arrehenius plots으로부터 0.16eV(3.75Kcal/mole)를 얻었다
이봉주,Lee, Bong-Ju 한국광학회 2002 한국광학회지 Vol.13 No.4
가류고무의 접착력을 향상시키기 위해서 엑시머 펄스 레이저 광으로 표면처리를 하였다. 레이저 광 조사 수의 증가에 따라, 접착력은 크게 향상되어, 100회의 조사 수에서 1500 N/m의 가장 큰 값을 얻었다. 또한 에너지 밀도 증가에 대해서도 접착력은 증가하여 에너지 밀도 176 mJ/$cm^{2}$에서 가장 큰 접착력 1500 N/m를 얻게 되었다. 에너지 밀도의 증가에 따라 접착력이 증가하는 것은 표면적의 증가와 관련이 있음을 알았다. Surface treatment was carried out by an Excimer Pulse laser beam in order to increase the adhesive strength of vulcanized rubber. With increasing number of laser beam irradiations, the adhesive strength was greatly increased; the adhesive strength was 1,500 N/m after irradiation 100 times. The energy density increase was in direct proportion to the adhesive strength increase; the maximum value of the adhesive strength was 1,500 N/m at the energy density of 176 mJ/$cm^{2}$. It was concluded that the increase of surface area was relevant to that of both energy density and adhesive strength
이봉주 한국보건사회연구원 2015 보건복지포럼 Vol.228 No.-
복지패널 조사의 10주년을 맞아 이 글에서는 그 동안 한국복지패널이 한국 사회과학 연구에 미친 영향을 실증적으로 살펴보고 있다. 현재까지 한국복지패널을 연구자료로 활용한 연구성과물은 석박사 논문 137편과 전문학술지에 게재된 학술논문 373편에 이르고 있는 것으로 파악되었다. 검색된 논문들의 분석을 통해서 양적이나 질적인 측면에서 한국복지패널의 학문적 기여는 이미 상당한 수준에 이르고 있음을 확인할 수 있었다. 종단자료가 축적될수록 패널데이터의 연구가치가 높아진다는 사실을 고려할 때 한국복지패널이 한국 사회과학 분야에 미치는 학문적 기여도는 앞으로도 더욱 커질 것으로 기대된다.
ITO(Indium Tin Oxide) 박막의 대기압 저온 플라스마 토치에 의한 식각
李奉柱 대한금속재료학회 2002 대한금속·재료학회지 Vol.40 No.4
We have investigated the etching possibility of ITO(Indium Tin Oxide) thin films by using the plasma that was developed to generate a low-temperature plasma torch at atmospheric pressure. Hydrogen and methane radicals generated from the plasma were observed and their intensity was found to be dependent on the methane flow rate due to an analysis with optical emission spectroscopy. The etching ability of this plasma was evaluated by the evaluation of methane radicals emission intensity.