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금표면위에 형성된 Octadecanethiol 자기 조립 단분자막의 UV 패턴형성에 관한 연구
채현진,노재근,김응렬,이해원 漢陽大學校 自然科學硏究所 1998 自然科學論文集 Vol.17 No.-
금 표면위에 자기 조립법에 의해 형성시킨 alkanethiol 단분자막을 UV lamp를 이용하여 효과적인 photoresist로의 가능성을 제시하고자 한다. Octadecanethiol의 자기 조립 단분자막은 빛을 받으면 octadecylsulfonate로 광화학적 전환을 일으키는데 이 octadecyl sulfonate는 물에 의해 쉽게 벗겨지므로 적당한 화학적 성질을 이용하면 금표면에 원하는 모양의 패턴을 형성시킬 수 있다. Mica 표면위에 열증착에 의해 금을 입히고 octadecanethiol 자기 조립 단분자막을 형성한 후, mask를 통해 UV를 쪼여준 자기 조립 단분자층을 수용성 식각용액에 담그면 mask의 패턴에 따라 UV로 조사된 부분의 금이 식각되어서 일정한 모양의 패턴이 형성된다. We demonstrate that self-assembled monolyer(SAM) of octadecanethiol on gold can be used as an effective photoresist. UV photolysis of octadecanethiol SAM generates the corresponding sulfonate in the monolayer film. The sulfonate is easily rinsed off from the surface with water, exposing a clean gold substrate, which can then be modified with subsequent chemistry. We describe here experiments in which an octadecanethiol SAM on a gold film was irradiated through a mask, followed by immersion of the sample in an aqueous acid etching solution. The gold was etched away from the areas which had been exposed to UV radiation leaving a pattern which reproduces the patterns of original mask.