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상압 플라즈마를 이용한 Polystyrene (PS)의 표면개절
이종수,신현석,석진우,장규완,백영환,Lee, Jong-Su,Shin, Hyun-Seok,Seok, Jin-Woo,Jang, Gyu-Wan,Beag, Yeong-Hwan 한국진공학회 2009 Applied Science and Convergence Technology Vol.18 No.1
고분자 Polystyrene (PS)의 표면에 친수성을 가지게 하기 위하여 RF power를 150 W에서 350 W로 처리 시간을 1회에서 4회로 처리하며, 압축된 공기와 산소 가스를 사용하여 상압 플라즈마로 개질하였다 압축된 공기로 처리한 시료의 접촉각은 $91^{\circ}$에서 $20^{\circ}$까지 접촉각이 낮아졌으며, 이 때 표면 에너지는 45.74에서 68.48 dyne/cm 증가하였다. 동일한 조건에서 산소 가스로 300 W의 RF Power로 4회 처리하였을 때 접촉각이 $91^{\circ}$에서 $17^{\circ}$로 변화하였으며, 표면에너지는 45.74에서 69.73 dyne/cm 증가하였다. 표면에너지의 증가는 dispersion force의 증가보다는 polar force의 증가에 의한 것으로 보인다. 상압 플라즈마로 처리된 시료의 접촉각 감소와 표면에너지의 증가는 X-ray photoelectron spectroscopy (XPS)의 spectra 결과로부터 PS의 표면에 C-O, C=O 결합의 증가로 인한 친수성 작용기가 표면에 형성되었기 때문이라고 생각된다. 상압 플라즈마 처리 후 대기 중에 보관된 시료의 접촉각은 시간이 경과함에 따라 증가하지만 물 속에 보관된 시료의 경우는 상압 플라즈마 처리 후의 접촉각을 그대로 유지하였다. 상압 플라즈마를 이용하여 PS의 표면을 개질하고, 그 위에 $4,000\;{\AA}$과 $8,000\;{\AA}$의 구리 박막을 열증착법을 이용하여 증착하였다. 각 시료와 구리 박막의 계면과의 접착력은 테이프 테스트 (ASTM D3359)를 이용하여 처리된 PS 표면이 처리하지 않은 시편에 비하여 접착력이 향상되었음을 확인하였다. Hydrophilic Surface modification of Polysarene (PS) was performed by Atmospheric Pressure Plasma (APP). Air or 0, gases were used for carrier gases and RF power was changed from 150 to 350 W. We controlled the treatment time as 1 time to 4 time passing through the plasma region. when the carrier gas was air, the water contact angle on the PS surface was decreased from $91^{\circ}$ to $20^{\circ}$. And the surface energy increased from 45.74 dyne/cm to 68.48 dyne/cm. In case of the $O_2$ plasma treatment, at 300 W of RF power and 4 times treatment, the water contact angle on the PS. Surface was decreased from $91^{\circ}$ to $17^{\circ}$ and the surface energy was increased from 45.74 dyne/cm to 69.73 dyne/cm. The surface energy was increased by polar force not by dispersion force. Improvement of surface properties can be explained by the formation of new hydrophilic groups which is identified as C-O, C=O by XPS analysis. The contact angle of APP treated PS surface kept in air was increased with time elapse, but maintained same value when it was kept in water. We treated the PS surface by APP and deposited Cu as $4,000\;{\AA}$ and $8,000\;{\AA}$ by thermal evaporation. The adhesion between sample and Cu thin film improvement of treated PS surface against untreated sample. could be verifiable by Tape test (ASTM D3359)
이종수,Lee, Jong-Su 한국전자통신연구원 1987 전자통신 Vol.9 No.3
정보를 나타내는 기호(symbol)들의 발생 빈도수(occurrence frequency)는 일반적으로 일정하지 않다. 빈번히 발생되는 기호일수록 짧은 길이로, 드물게 발생되는 기호는 길게 부호화 함으로써 우리는 데이터량을 많이 감축할 수 있다. 우리는 이러한 가변장 부호 기법(variable length coding)인 Huffman과 Shannon-Fano 부호 기법을 영상정보에 적용하여 약 77%의 데이터량을 감축할 수 있음을 보여준다.
이종수,Lee, Jong-Su 한국과학기술단체총연합회 1997 과학과 기술 Vol.30 No.7
일본의 과학기술계는 특출난 지도자가 많다. 반골이면서 인재육성에 정열을 쏟아왔던 나가오카 한타로박사는 42세의 젊은 과학자 오고치 마사도시박사를 3대 리켄 소장에 천거, 성취시켰다. 또 4대 리켄소장인 니시나 요시오박사도 그의 제자로 일본 핵물리학의 아버지로 불리운다.
이종수,Lee, Jong-Su 한국과학기술단체총연합회 1996 과학과 기술 Vol.29 No.12
총면적 37만㎢밖에 안되는 극동의 조그마한 섬나라 일본. 그러나 일본은 막강한 경제대국으로 그들이 이룩한 기술력을 높이 평가하지 않을 수 없다. 일본이 어떻게 서구 문명권 밖에서 으뜸가는 과학문명을 열었는가. 역사적 배경을 살펴보면.
이종수,Lee, Jong-Su 한국과학기술단체총연합회 1996 과학과 기술 Vol.29 No.8
일본은 80년대 초부터 범국가적으로 자역기술 진흥에 힘을 기울려 전 국토가 첨단기술화하는 고도의 정보사회로 치닫고 있다. 세계적으로 어떤 지역이 기술로 개발되고 그 기술을 중심으로 한 산업지역으로 발전한 사례를 많이 볼 수 있다. 미국의 경우 반도체 공업이 일어난 실리콘밸리를 비롯해 일본의 쓰구바연구학원도시 등을 들 수 있다. 최근 우리나라도 과기처에서 '과학기술특별법'제정을 추진하고 있으며 과총에서도 과학기술봉사단을 발족시켜 앞으로의 활약이 기대된다.
이종수,Lee, Jong-Su 한국과학기술단체총연합회 1997 과학과 기술 Vol.30 No.1
명치유신 전 수백년 동안 쇄국정책을 펴온 일본. 그러나 양학에 눈을 뜬 일본은 명치유신 이후 쇄국의 문을 허물고 서양의 과학기술을 도입, 활용하게 되었다. 일본은 외국인 교사를 각료급 월급으로 우대하면서 일본 땅에 과학의 뿌리를 내리는 작업을 계속했다.