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비정질 TbFe박막의 열자기 기록시 온도분포와 Bit크기의 관계
이세광,박종철 한국전기전자재료학회 1990 電氣電子材料學會誌 Vol.3 No.3
광자기 메모리용 재료인 비정질 TbFe 박막을 대상으로 열자기 기록시 박막에 분포하는 온도와 이때 만들어지는 bit의 크기간에 상호관련성을 조사하였다. 레이저 조사에 의해 가열된 박막의 온도분포는 유한요소법을 이용한 열전달 해석에 의해 계산하였다. 레이저 가열종료 직전 박막 면에 분포하는 온도 contour로 부터 bit 크기를 예측하였다. 여기서 bit 크기는 온도 상승에 따라 보자력이 약화되어 외부자계와 박막반자장의 합력이 역자구를 만들어 준다고 가정하여 이 경계가 되는 온도(Tcrit)로 이루어지는 등온선의 크기로부터 정하였다. 열자기 기록 실험으로부터 기록 bit의 크기(Dmeas.)을 측정하여 레이저조사조건별로 예측한 bit크기(Dpred.)와 비교하였다. 특히, 레이저 pulse시간 변화에 따른 여러온도의 등온선 contour 직경변화를 조사하여 실측한 bit크기와 비교 검토함으로써 bit형성에 미치는 온도분포의 영향을 조사하였다. 이 결과 레이저 pulse시간이 길어지거나 레이저 power가 상대적으로 작을때 실측한 bit크기가 예측된 bit크기보다 커지는 것으로 나타났으며 이는 Tcrit 온도구배가 완만해질수록 bit경계가 되는 온도가 낮아지는 것으로 해석된다.
도시지역 토지적성평가의 적정성에 관한 연구 - 서울시를 중심으로 -
이세광,박준 한국지역학회 2022 지역연구 Vol.38 No.2
The Land Suitability Assessment is mandatory by National Land Planning and Utilization Act and the results are considered in the establishment of urban master plan and urban management plan. The study aims to examine whether the application of Land Suitability Assessment in developed urban areas is appropriate. A simulation analysis based on the Seoul’s data of environmental ecological, physical, and spatial characteristics was conducted on urban green, the only applicable land for the assessment in Seoul. The results of the assessment shows that all pieces of lands in urban green is suitable for ‘development’. This conflicts to the purpose of land use of urban green which needs to be conserved to protect the natural environment and landscape, animals and plants, environmental pollution, and urban sprawl. In the analysis applying optional indicators such as the distance from the area of Biotope Class 1 to prevent this conflict, the results shows little difference. This supports the necessity to review this regulation including an option to exclude developed urban areas such as Seoul in the assessment. 이 연구의 목적은 토지적성평가를 기개발된 도시지역에 적용하는 것이 평가의 근본 목적에 부합하는지 를 검토하여 제도 개선안을 도출하는 것이다. 이 연구에서는 서울시 환경 생태적·물리적·공간적 특성을 정리하 여 입지현황, 수립현황 등의 내용적 특성을 검토한 후 선택지표를 적용한 토지적성평가 시뮬레이션 분석을 수행했 다. 서울시 내 토지적성평가의 적용대상인 녹지지역에 대한 토지적성평가 시뮬레이션 분석 결과 모든 토지에서 개 발성향 결과가 나왔다. 또한 도시지역에 적용할 경우 지역적합성이 반영되는 선택지표와 별도보전지역 지정에 따 라 정성적 평가를 추가할 수 있는 장치가 있지만 이러한 선택지표 및 정성평가를 추가한 시뮬레이션 분석에서도 대 부분의 녹지지역이 개발성향으로 분류되었다. 이는 서울시에서 도시계획적 차원에서 보전지역으로 관리하고 있는 녹지지역의 성격과 배치되는 결과이며, 그 이유는 전체 평가대상 토지의 적성값 평균과 표준편차를 이용하여 표준 정규분포곡선상의 표준화값으로 변환하는 방식의 토지적성평가에서 적성등급의 비율이 가지고 있는 구조 때문이 다. 따라서 기개발된 도시지역은 토지적성평가 수립에서 제외하는 등 관련 규정의 재정비가 필요하다
나노급 CMOSFET을 위한 Boron Cluster(B18H22)가 이온 주입된(SOI 및 Bulk)기판에 Ni-V합금을 이용한 Ni-silicide의 열안정성 개선
이세광,이원재,장잉잉,종준,정순연,이가원,왕진석,이희덕,Li, Shu-Guang,Lee, Won-Jae,Zhang, Ying-Ying,Zhun, Zhong,Jung, Soon-Yen,Lee, Ga-Won,Wang, Jin-Suk,Lee, Hi-Deok 한국전기전자재료학회 2007 전기전자재료학회논문지 Vol.20 No.6
In this paper, the formation and thermal stability characteristics of Ni silicide using Ni-V alloy on Boron cluster ($B_{18}H_{22}$) implanted bulk and SOI substrate were examined in comparison with pure Ni for nano-scale CMOSFET. The Ni silicide using Ni-V alloy on $B_{18}H_{22}$ implanted SOI substrate after high temperature post-silicidation annealing showed the lower sheet resistance, no agglomeration interface image and lower surface roughness than that using pure Ni. The thermal stability of Ni silicide was improved by using Ni-V alloy on $B_{18}H_{22}$ implanted SOI substrate.