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TiS$i_2$ 박막의 열안정성에 미치는 막 스트레스의 영향
김영욱,김영욱,고종우,이내인,김일권,박순오,안성태,이문용,이종길,Kim, Yeong-Uk,Kim, Yeong-Uk,Go, Jong-U,Lee, Nae-In,Kim, Il-Gwon,Park, Sun-O,An, Seong-Tae,Lee, Mun-Yong,Lee, Jong-Gil 한국재료학회 1993 한국재료학회지 Vol.3 No.1
단결정 실리콘위에 스퍼터법으로 증착된 티타니움막을 급속가열로에서 고상반응에 의해 형성시킨 면저항 1.2 ohm/sq. 내외의 TiS$i_2$ 박막에 있어서 열안정성을 상부절연막의 유무 및 종류에 따라 조사하였다. 상부절연막은 상압 CVD로 증착한 USG(Undoped Silicate Glass, Si$i_2$) 막과 플라즈마 CVD법으로 증착한 PE-SiN(S$i_3$$N_4$)막을 사용했다. 열안정성 평가는 90$0^{\circ}C$에서 시간을 달리하여 TiS$i_2$막, PE-SiN막, USG막의 스트레스는 각각 1.3${\times}{10^{9}}$, 1.25 ${\times}{10^{10}}$, 2.26 ${\times}{10^{10}}$ dyne/c$m^2$의 인장응력을 나타내었다. 응집현상은 TiS$i_2$의 응집현상은 Nabarro-Herring 마이크로 크리프에 의한 원자의 확산관점에서 검토되었다. Abstract The effect of the film stress on the thermal stability of TiSi, films under the dielectric overcoat was investigated. TiS$i_2$ films with the sheet resistance of 1.2 ohm/sq. were produced by a solid-state reaction between sputtered Ti film and single-crystalline Si in an RTA (rapid thermal anneal) machine. Dielectric overcoats such as the USG (Undoped Silicate Glass, Si$O_2$) film and the PE-SiN(S$i_3$$N_4$) film were deposited by AP-CVD and PE-CVD, respectively, on the TiS$i_2$ film. The thermal stability of the TiSi, film was evaluated by changes in the sheet resistance, film stress and microstructure after furnace anneals at 90$0^{\circ}C$. Agglomeration of the TiSi2 film high temperatures results in the increase of sheet resistance and the decrease of tensile stress of TiSi, film. The stress level of the TiSi" PE-SiN and ~SG films at 90$0^{\circ}C$C was 1.3${\times}{10^{9}}$, 1.25 ${\times}{10^{10}}$, 2.26 ${\times}{10^{10}}$ dyne/c$m^2$ in tensile, respectively. Dielectric films deposited by CVD on TiSi, was effective on preventing agglomeration of TiSi,. The PE-SiN film mproved the thermal stability of TiSi, more effectively than the AP-CVD USG film. It is considered that agglomeration of the TiS$i_2$ film under the stress of dielectric overcoat at high temperature can be caused by a diffusional flow of atom called Nabarro-Herring microcreep.reep.
페로니켈슬래그 미분말을 사용한 모르타르의 응결시간 및압축강도특성에 관한 실험적 연구
김영욱,김도빈,최세진 한국건축시공학회 2018 한국건축시공학회지 Vol.18 No.6
본 연구에서는 페로니켈슬래그 미분말의 시멘트 대체재로서의 가능성을 평가하기 위하여 페로니켈슬래그 미분말 사용 모르타르의 압축강도 및 건조수축특성을 비교·분석하였다. 연구결과 페로니켈슬래그 미분말을 사용한 배합의 경우동일한 양의 고로슬래그 미분말 및 플라이애시를 사용한 배합에 비해 미소수화열량이 낮게 나타났으며 모르타르 플로우는 상대적으로 다소 높은 것으로 나타났다. 또한 페로니켈슬래그 미분말을 사용한 모르타르의 압축강도의 경우 초기강도발현은 고로슬래그 미분말 및 플라이애시와 유사하게나타났으나 재령 28일에서는 상대적으로 낮은 압축강도를발현하였다. 건조수축의 경우 페로니켈슬래그 미분말을 사용한 배합에서 고로슬래그 미분말을 사용한 배합에 비해 낮은 건조수축값을 나타내었으며 플라이애시를 혼입한 배합의건조수축과 유사하게 나타났다. This study evaluate the fluidity and hardening properties of mortar by replacement ratio of ferronickel slag powderto estimate the applicability of ferronickel slag powder for cement replacement materials. Ferronickel slag powder wasreplaced by 0, 5, 10, 15 and 20% of the cement weight. In addition, blast furnace slag powder and fly ash were alsoused for comparing with the mixtures using ferronickel slag powder. As the test results, the micro-hydration heat ofthe mixture containing the ferronickel slag powder was lower than that of the mixtures containing the same amountof blast furnace slag powder and fly ash. The flow of the sample with ferronickel slag powder was relatively higherthan the other mixtures. In all ages, the compressive strength of the mixture with ferronickel slag powder and fly ashwas similar to that of the mix containing only fly ash. In case of drying shrinkage, the mixture containing ferronickelslag powder exhibited lower drying shrinkage than the mixture using blast furnace slag powder, and similar to themixture containing fly ash.
김영욱,김종명,박성용,이현재 한국항공우주학회 2015 한국항공우주학회 학술발표회 논문집 Vol.2015 No.4
본 연구는 로켓에 비해 비교적 구조가 간단한 기상관측용 풍선을 활용한 지구의 곡선을 촬영하는 방법에 대해 논하였다. 본 기술은 상대적으로 저비용으로 고품질의 우주영상을 획득할 수 있다는 장점을 가지고 있다. 다만, 무인자유기구로서 하늘로 부양 시 조종 할 수 없어 공역을 사용하는 항공기에게 위험요소로 작용할 수 있으므로 이와 같은 연구는 항공법의 테두리 안에서 안전하게 진행되어야한다. 따라서 본 연구를 통해 이러한 문제에 대한 안전한 운용절차에 대하여 연구하였다. 또한, 한반도의 기상특성을 통한 기구의 발사장소 선정과 기구의 회수를 위한 최종착륙지점을 예측하는 방법에 대하여 연구하였고 직접 실험을 통해 GPS 신호로부터 예상한 지점과 가까운 곳에서 장비를 회수하는 데에 성공하였다. 본 논문에서 제시하는 수식적으로 검증한 착륙지점 예측방법과 회수방법 또, 항공법 안에서 안전하게 부양할 수 있는 행정절차를 통하여 향후 이와 같은 프로젝트를 진행할 때에 기초자료가 될 수 있을 것으로 판단된다. In this paper a simple approach for obtaining the picture of the earth curvature using weather balloons is addressed. The advantage of this approach is that the system to taking the high-quality space images is relatively simple than any other approach, and it can be built with low cost. However, according to the Aviation Act on the unmanned free balloon, it must be carried out safely within the related laws and regulations. Therefore the safety operational procedures of the balloon is investigated to meet the regulations in Korea. Furthermore, The predicting the landing site of the falling weather ballon is one of the most challenging technologies in the unpredictable atmospheric environment. In this paper, a simple idea to predict the final landing spot of the balloon considering the Korea’s atmospheric environment is addressed and proven through actual experiment using GPS. Finally, it is believed that this study will be basic data for decreasing the risks to launch the balloon and predict the landing location, keeping the related regulations and administrative procedure for the safe operations.
삼성전자의 일본 추격 과정에 관한 연구 -경영모방과 오너의 모방관을 중심으로-
김영욱 한일경상학회 2013 韓日經商論集 Vol.59 No.-
During the process of pursuit, it is common for the latecomer to imitate the first-mover. Considering the latecomer’s dire shortage of business management resources, learning from imitation is not a choice but a necessity. This was also the case with Samsung Electronics. However, there are only a small number of studies on the second-movers’ imitation process, and the few studies on imitation are mostly limited to imitation of technologies. This study looks at how Samsung Electronics’ imitation of Japan ultimately led it to become the world’s largest electronics company that today outstrips Japanese companies. However, it differs from previous studies in two aspects. First, Samsung focused on imitating Japan’s managerial practices, rather than focusing on technology alone. As a result, Samsung successfully acquired Japan’s technologies much faster than others, establishing the foundation of its technological prowess that helped the company outmatch Japan in the future. Second, Samsung was strongly determined to overtake Japan even while imitating Japan. Imitation, no matter how sophisticated, can easily turn a company into just another ordinary supplier. This is the fate of companies that do not have a strong commitment to excel by acquiring the technologies of others. However, Samsung was different. Such difference is what latecomers of developing nations that dream of overtaking first-movers of developed countries should learn from.