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이정렬,곽재건,반지은,김웅한,진성훈,김용진,노준량,배은정,노정일,윤용수 대한흉부외과학회 2006 Journal of Chest Surgery (J Chest Surg) Vol.39 No.2
배경: 대동맥 단절증은 드문 선천성 심기형으로 여전히 높은 수술 사망률을 보이고 있다. 이 연구에서는 사망의 원인과 위험인자를 분석하여 사망률이 높은 이 질환의 수술 결과를 향상시키기 위한 전략을 발견하고자 하였다. 대상 및 방법: 1984년부터 2004년까지 대동맥궁 단절증으로 진단 받은 42명의 환자를 대상으로 하였다. 환자의 나이, 수술 당시의 체중, 수술 전 진단, 수술 전 PGE1의 사용여부, 대동맥궁 단절증의 형태, 수술 전 좌심실 유출로 협착의 정도, 인공심폐기 가동시간, 대동맥 겸자 시간 등을 사망 위험인자가 될 수 있는 후보 요소들로 가정하고 이에 대한 분석을 시행하였다. 결과: 14명의 수술 사망이 있었다. 사망원인은 폐동맥 밴딩으로 인한 저산소증 및 이로 인하여 초래된 양심실 유출로의 협착, 감염, 승모판 역류, 장시간의 체외순환으로 인한 심근 손상, 대혈관 전위증 환자에서의 관상동맥 전위의 실패 등이었으며, 수술 전 PGE1의 사용 여부, 인공심폐기의 보조 기간과 대동맥 결찰 시간 등이 사망과 관련된 위험인자로 분석되었다. 수술 전 좌심실 유출로의 협착 정도는 통계학적인 의미를 얻어내지는 못했지만, 협착 정도가 심할수록 사망률이 증가하는 경향을 보였다(p-value=0.61). 결론: 이 연구에서 저자들은 수술 전 PGE1의 사용유무, 인공심폐기의 가동 시간과 대동맥 결찰 시간 등이 수술 사망을 높이는 인자임을 밝혔다. 작은 크기의 대동맥 하 좌심실 유출로는 수술 사망과 직접적인 관련은 없었지만, 수술 사망률의 증가에 따라 협착의 정도가 심해지는 소견은 보였다. 수술 전 환자 상태와 보다 짧은 수술 시간이 위험인자로 밝혀진 만큼, 수술 전 환자에 대한 적절한 처치와 정확한 수술적 전략을 통한 수술 시간 단축이 보다 나은 수술 성적을 위해서 꼭 필요하다.
실버 세대를 위한 U-SilverCare 응급상황 통보 서비스의 구현
봉성우 ( Sung Woo Bong ),곽노정 ( No Jung Kwak ),변영택 ( Yeong Taik Byeon ),김정윤 ( Jane Chungyoon Kim ),김영만 ( Young Man Kim ) 한국정보처리학회 2008 한국정보처리학회 학술대회논문집 Vol.15 No.1
최근 우리 사회의 인구 구성 중, 노인 인구 비율이 크게 늘어남에 따라 실버 세대를 위한 체계적이고 신속한 의료 환경이 요구되고 있다. 이러한 요구에 의해 유비쿼터스 IT 기술과 센싱, 네트워크 인터페이스 등을 통한 새로운 건강 관리 서비스인 U-SilverCare 서비스 개발이 활발하게 이루어지고 있다. 본 논문에서는 가속도 센서(Accelerometer)를 이용하여 실버 세대를 위한 U-SilverCare 응급상황 통보 서비스를 구상 및 구현한다.
적외선 카메라를 이용한 웹 서비스 기반 원격 트래킹 방범 시스템의 설계 및 구현
정병호 ( Chung Byong Ho ),곽노정 ( Kwak No Jung ),김영만 ( Kim Young Man ) 한국정보처리학회 2008 한국정보처리학회 학술대회논문집 Vol.15 No.1
범죄 예방과 자원 보호를 위해 CCTV 카메라를 이용하는 방범 시스템의 필요성은 점차 커지고 있다. 아날로그 형식에서부터 디지털 형식으로 발전된 형태의 방범 시스템이 개발되고 사용 중이지만, 비용이 높고 효율성이 떨어지는 문제가 있다. 본 논문에서는 웹 서비스 기반의 서버에 적외선 카메라를 연결하고 사용자가 사전 인지 없이도 클라이언트에서 실시간으로 침입을 탐지하여 적절하게 대처할 수 있는 방범 시스템을 설계하고 구현한다.
Self assembled-monolayer(SAM)법을 이용한 TaN 확산방지막의 무전해 Cu 도금용 Pd seed layer 제조 및 특성
한원규,조진기,최재웅,김정태,염승진,곽노정,김진웅,강성군,Han, Won-Kyu,Cho, Jin-Ki,Choi, Jae-Woong,Kim, Jeong-Tae,Yeom, Seung-Jin,Kwak, Noh-Jung,Kim, Jin-Woong,Kang, Sung-Goon 한국재료학회 2007 한국재료학회지 Vol.17 No.9
Electroless deposition(ELD) was applied to fabricate Cu interconnections on a TaN diffusion barrier with Pd seed layer. The Pd seed layer was obtained by self-assembled monolayer method(SAM) with PDDA and PSS as surfactants. We were able to obtain about 10nm Pd nano particles as seeds for electroless Cu deposition and the density of Pd seeds was much higher than that of Pd seeds fabricated by conventional Pd sensitization-activation method. Also we were able to obtain finer Cu interconnections by ELD. Therefore we concluded that the Pd seed layer by SAM was able to be applied to form Cu interconnection by ELD for under 30nm feature.
무전해 도금법으로 제조된 Co(Re,P) capping layer제조 및 특성 평가
한원규,김소진,주정운,조진기,김재홍,염승진,곽노정,김진웅,강성군,Han, Won-Kyu,Kim, So-Jin,Ju, Jeong-Woon,Cho, Jin-Ki,Kim, Jae-Hong,Yeom, Seung-Jin,Kwak, Noh-Jung,Kim, Jin-Woong,Kang, Sung-Goon 한국재료학회 2009 한국재료학회지 Vol.19 No.2
Electrolessly deposited Co (Re,P) was investigated as a possible capping layer for Cu wires. 50 nm Co (Re,P) films were deposited on Cu/Ti-coated silicon wafers which acted as a catalytic seed and an adhesion layer, respectively. To obtain the optimized bath composition, electroless deposition was studied through an electrochemical approach via a linear sweep voltammetry analysis. The results of using this method showed that the best deposition conditions were a $CoSO_4$ concentration of 0.082 mol/l, a solution pH of 9, a $KReO_4$ concentration of 0.0003 mol/l and sodium hypophosphite concentration of 0.1 mol/L at $80^{\circ}C$. The thermal stability of the Co (Re,P) layer as a barrier preventing Cu was evaluated using Auger electron spectroscopy and a Scanning calorimeter. The measurement results showed that Re impurities stabilized the h.c.p. phase up to $550^{\circ}C$ and that the Co (Re,P) film efficiently blocked Cu diffusion under an annealing temperature of $400^{\circ}C$ for 1hr. The good barrier properties that were observed can be explained by the nano-sized grains along with the blocking effect of the impurities at the fast diffusion path of the grain boundaries. The transformation temperature from the amorphous to crystal structure is increased by doping the Re.