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장진규,김대일 한국열처리공학회 2022 熱處理工學會誌 Vol.35 No.6
Transparent conducting ZnO/Ti/ZnO tri-layer films deposited on glass substrate with DC and RF magnetron sputtering were rapid thermal annealed at 150, 300 and 450oC for 5 minutes and then effect of annealing temperature on the structural and optoelectronics properties of the films were investigated. The structural properties are strongly related to annealing temperature and the largest grain size is observed in the films annealed at 450oC. The electrical resistivity also decreases as low as 7.7 × 10-4 Ωcm. The visible transmittance also depends on the annealing temperature. The films annealed at 450oC show a higher transmittance of 80.6% in this study.
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장진규 과학기술정책연구원 1994 기본연구 Vol.- No.-
노동과 물적 자본을 중심으로 형성되어 왔던 국가경제의 전통적인 생산구조는 근래들어 기술요소를 중심으로 하는 새로운 형태로 전환되고 있다. 이는 현대 산업사회에서 시장경쟁력을 확보하고 아울러 경제발전을 지속적으로 이룩하기 위해서는 무엇보다도 먼저 신기술을 개발하여 산업의 생산성 향상을 실현해야만 한다는 인식을 반영하는 것으로 해석할 수 있다. 새로운 기술의 개발은 종전보다도 적은 자원을 투입하여 재화나 용역을 공급하게 해줄 뿐만 아니라 품질을 개선시키거나 더욱 다양한 제품을 생산할 수 있게 한다는 점에서 이른바 넓은 의미에서의 생산활동의 혁신을 의미한다. 따라서 기업에게는 생산성의 향상과 함께 이윤증대의 기회를 제공해주는 계기가 될 뿐만 아니라 소비자의 후생을 증대시켜주며, 아울러 여타 산업에의 기술파급을 통해 커다란 외부 경제효과를 창출한다.이와같이 광범위한 경제효과를 유발하는 산업기술의 개발은 크게 두가지의 경로를 통해 이루어질 수 있다. 하나는 자체 연구개발 투자를 통한 기술개발이며, 다른 하나는 선진국으로부터의 기술을 도입하여 국내 상황에 맞도록 소화·흡수하는 방법이다. 최근 국내·외적인 어려움을 겪고 있는 우리 경제가 이를 극복하고 선진국 대열로 도약하기 위해서는 무엇보다도 자체 연구개발 활동과 기술도입 노력을 적절히 조화시켜 산업의 기술능력을 제고하는것이 첩경이다. 따라서 정부는 기업들의 자체 연구개발 활동과 기술도입 노력에 필수적이고 친화적인 환경을 조성하는 중요한 역할을 담당해야 한다. 기술능력 제고를 위한 효율적인 정책을 수립하기 위해서는 기업차원에서의 혁신활동에 영향을 주는 제반 요인들은 무엇이며 이들의 효과는 어느정도인지를 먼저 파악할 필요가 있다.따라서 본 연구에서는 한국 산업기술진흥협회의 1990 년도 기술도입 실태에 관한 survey 자료를 이용하여 한국에 있어서의 기술도입과 자체 연구개발 노력 사이에는 어떠한 관계가 존재하는지를 살펴보았으며 이 과정에서 기술도입과 자체 연구개발 노력에 어떠한 변수들이 영향을 주고있는지와 자체 연구개발과 기술도입이 기업의 매출액에는 어느정도 영향을 주고 있는지를 실증적으로 분석해 보았다.분석의 결과 한국에 있어 자체 연구개발과 기술도입간에는 상호보완적인 관계가 있는 것으로 나타났는데 이는 외국으로부터의 기술도입이 이를 소화·흡수하기 위한 연구개발 투자 또는 기술도입으로부터 얻은 지식을 토대로 좀더 혁신적인 연구개발활동을 수행하기위한 투자를 증대시키고 있는 것으로 해석할 수 있다. 한편, 기술도입과 자체 연구개발에 영향을 주는 제반 요인들로써 기업의 매출액, 고용수준, 유형고정자산액, 수출액, 산업의 총매출액중 해당 기업의 매출액 비율등을 고려해 보았는데 대부분의 요인들이 기술도입과 자체연구개발에 반대되는 영향을 주고 있는것으로 나타났다. 예를들면 유형고정자산의 경우 기술도입에는 positive 한 영향을 주고 있으나 자체 연구개발에는 negative한 영향을 주고 있는 것으로 추정되었고, 수출액의 경우는 기술도입에 negative한 영향을 주고 있으나 자체 연구개발에는 positive 한 영향을 주는 것으로 추정되었다. 한편 기업매출액의 기술도입 및 자체 연구개발투자에 과한 탄력성을 구해본 결과 각각 0 .4 3과 0.10으로 추정되었는데 이는 기술도입 및 자체 연구개발 투자가 모두 기업의 매출액에 positive한 영향을 미치고 있으나 기술도입이 자체 연구개발 투자에 비해 기업의 매출액 증대에 더 크게 기여하고 있는 것으로 해석할 수 있다. 본 연구에서는 자료의 한계로 인하여 좀더 정밀하고 세부적인 분석은 시도하지 못하였다. 추후 자체 survey등을 통한 자료의 정비가 이루어질 경우 좀 더 심층적인 연구가 가능할 것으로 예상되는 바본 연구는 다음과 같이 개선될 수 있다.첫째는 외국인 직접투자 (Direct Foreign Investment), 기술도입계약 (Foreign Licencing), 기술지도 (Technology Consultancy), 자본재수입 (Capital Goods Imports) 등과 같은 기술이 전의 메카니즘에 따른 각각의 경제효과 분석을 수행해야 할 것이다.둘째는 기업의 자체연구개발 및 기술도입에 대한 정부의 지원이 어느 정도 효과를 나타내었는지 그리고 정부부문의 연구개발 투자가 기업의 연구개발 투자 및 기술도입과는 어떠한 관계가 있는지를 분석할 필요가 있다.
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ZnO/Ti/ZnO 박막의 결정성 및 전기광학적 완성도 개선 연구
장진규,김유성,이연학,최진영,이인식,김대욱,차병철,공영민,김대일 한국표면공학회 2023 한국표면공학회지 Vol.56 No.2
Transparent ZnO (100 nm thick) and ZnO/Ti/ZnO (ZTZ) films were prepared with radio frequency (RF) and direct current (DC) magnetron sputtering on the glass substrate at room temperature. During the ZTZ film deposition, the thickness of the Ti interlayer was varied, such as 6, 9, 12, and 15 nm, while the thickness of ZnO films was kept at 50 nm to investigate the effect of the Ti interlayer on the crystallization and opto-electrical performance of the films. From the XRD pattern, it is concluded that the 9 nm thick Ti interlayer showed some characteristic peaks of Ti (200) and (220), and the grain size of the ZnO (002) enlarged from 13.32 to 15.28 nm as Ti interlayer thickness increased. In an opto-electrical performance observation, ZnO single-layer films show a figure of merit of 1.4×10-11 Ω-1, while ZTZ films with a 9 nm-thick Ti interlayer show a higher figure of merit of 2.0×10-5 Ω-1.
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