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      • KCI우수등재

        방사광을 이용한 Si 웨이퍼 표면불순물 검출감도 향상

        김흥락(Heung Rak Kim),김광일(Kwang Il Kim),강성건(Sung Gun Kang),김동수(Dong Soo Kim),윤화식(Hwa Shik Yoon),류근걸(Kun Kul Ryoo),김영주(Young Joo Kim) 한국진공학회(ASCT) 1999 Applied Science and Convergence Technology Vol.8 No.1

        방사광을 이용한 전반사 형광 분석법으로 Si 웨이퍼 표면 금속 불순물의 검출능을 향상시켰다. 측정장치는 특정 단색광 에너지만을 선택할 수 있는 모노크로메팅부, 측정챔버안으로 유입되는 방사광은 차폐하고 원하는 크기의 단색광을 선택하는 슬릿부 그리고 Si 웨이퍼 표면에서 전반사에 의해 발생하는 형광 X-선을 검출하는 측정부로 구성되어 있다. 단색광의 에너지는 10.90 KeV로 선택하였고, 최적의 전반사 조건을 확립하기 위하여 소멸시간과 Fe의 형광 X-선의 강도비의 관계를 이용하였다. 기존 X-선원을 이용하여 관찰한 결과와 비교하였을 경우에, 최대 약 50배까지 검출감도를 향상 시킬 수 있었다. 특히, TRXFA (Total Reflection X-ray Fluorescence Analyzer)법으로는 검출하기 어려운 5×10^10 atoms/㎠ 수준의 금속오염은 방사광을 이용한 TRSFA(Total Reflection Synchrotron Fluorescence Analyzer)법으로는 충분히 검출할 수 있고, 5×10^9 atoms/㎠의 금속 불순물까지 검출할 수 있는 방법 및 장치를 개발하였다. 이를 이용하여 차세대 Si 웨이퍼의 초극미량 금속 불순물 분석에 이용할 수 있는 방법으로 기대된다. Total reflection X-ray fluorescence spectroscopy using synchrotron radiation source called as TRSFA was explored to achieve high sensitivities to impurity metals on Si wafer surface. It consists of monochromating part to select a specific wavelength, slit part to shield direct beam and to control monochromated beam, and main chamber to dectect fluorescent X-ray counts of impurities on Si wafer. Monochromated X-ray of 10.90 KeV was selected and the optimum total reflection condition on silicon wafer was obtained through tuning the dead time and fluorescent X-ray count of Si and Fe. TRSFA system could increase the sensitivity as high as 50 times in comparision with TRXFA using normal X-ray source. But the trend was varied since the surface conditions of Si wafers and, therefore, the reflectivities were different. Furthermore, there seems to be a promising path to reaching a detection limit useful to the next generation metal impurities control, because Fe impurity below to the 5×10^9 atoms/㎠ can be detectable through the developed TRSFA system.

      • KCI등재

        디스크형 압전 변압기의 전기적 특성

        김동수,김광일,김흥락,정우철,남효덕,Kim, Dong-Soo,Kim, Kwang-Il,Kim, Heung-Rak,Jeong, Woo-Cheol,Nam, Hyo-Duk 한국전기전자재료학회 2005 전기전자재료학회논문지 Vol.18 No.11

        In this study, a step-down piezoelectric transformer was fabricated to utilize as an adapter for charging batteries of mobile electronic appliances. The ceramic part of the transformer is $Pb[(Mn_{1/3}Sb_{2/3})_{_0.05}Zr_{0.475}Ti_{0.475}]O_3$ with mechanical quality factor of 1600, electromechanical coupling coefficient $59\%$, and piezoelectric constant $d_{33}$ 1300, which can be utilized as a piezoelectric transformer. A simply fabricated disk-typed test pattern of diameter 28 mm and thickness 2 mm was used to characterize output voltage, step-down ratio as a function of electrode area with the input remained constant, and power, efficiency as a function of input voltage, and temperature-dependent electric characteristics were evaluated. The sample APT1 showed the best properties. The highest admittance, effective electromechanical coupling coefficient and an appropriate mechanical quality factor were obtained at the sample with the input/output area ratio of 1:1.5 at the common electrode, and the condition of 20 $V_{rms}$, $50\;\Omega$ made the maximum efficiency of $95\%$. The temperature was increased by 14.7'E as the input voltage was increased for $50\;V_{rms},\;50\;\Omega$.

      • KCI등재

        건식식각 기술 이용한 실리콘 압력센서의 특성

        우동균 ( Dong Kyun Woo ),이경일 ( Kyung Il Lee ),김흥락 ( Heung Rak Kim ),서호철 ( Ho Cheol Suh ),이영태 ( Young Tae Lee ) 한국센서학회 2010 센서학회지 Vol.19 No.2

        In this paper, we fabricated silicon piezoresistive pressure sensor with dry etching technology which used Deep-RIE and etching delay technology which used SOI(silicon-on-insulator) wafer. We improved pressure sensor offset and its temperature dependence by removing oxidation layer of SOI wafer which was used for dry etching delay layer. Sensitivity of the fabricated pressure sensor was about 0.56 mV/V·kPa at 10 kPa full-scale, and nonlinearity of the fabricated pressure sensor was less than 2%F.S. The zero off-set change rate was less than 0.6%F.S.

      • KCI등재후보

        개방형 우물 구조를 이용한 마이크로머신형 pH 센서

        김흥락,김영덕,정우철,김광일,김동수 한국비파괴검사학회 2002 한국비파괴검사학회지 Vol.22 No.4

        수용액에 포함된 수소이온(H^+)의 농도를 측정하는 유리 전극형 수소이온 농도(pH) 센서의 기본 구조를 bulk micromachining 기술로 구현하여 소형의 pH센서를 제작하였다. 박막 증착이 가능한 경사 식각으로 개방된 2개의 기본 구조물을 형성하고, 일정 전위를 유지하기위한 기준전극은 식각된 구조물 경사면에 박막형 Ag/Agcl으로 확보하였다. H^+과 교환반응으로 전위를 발생시키는 감응부는 Na 20%이상 포함된 glass로 100㎛ 내외로 미세 연마하여 기본 구조물에 접합하여 완성하였다. 또한 외부 용액과 기준 용액의 혼합을 방지하면서 전류 도통 역할을 하는 액간 접촉부는 50㎛ × 50㎛ 크기의 Si 이방성 식각 부분에 한천을 삽입하고 난 다음 기존의 구조물에 접합하여 형성하였다. 각 구조물을 완성한 다음 2M 농도의 KCl 기준 용액을 구조물에 채우고, 상온 에폭시로 센서 구조물을 밀봉하여 센서를 완성하였다. 제작된 pH센서들은 표준 pH 용액에 대하여 약 90mV/pH의 전위값이 측정되었다. A structure of a glass electrode-type pH sensor for measuring any concentration of H^+ in an aqueous solution was embodies with bulk micromachining technology. Two open well structure were formed, and a reference electrode was secured by the Ag/AgCl thin film in the sloped side of the etched structure. A sensitive membrane of an indicator electrode for generationg a potential by an exchange reaction to H^+ was made with a glass containing Na 20% or more finely so that its thickness might be 100㎛ or so, and then it was bonded to one pyramidal structure. A liquid junction for a current path was formed by filling an agar in the anisotropically etched part of the Si wafer, which had a size of 50㎛ × 50㎛, and then bonded it to the other. after complete fabrication of each part, it was filled qith a 2M KCl reference solution and encapsulated the sesor structure with a cold epoxy. The potential value of fabricated pH sensor was about 90mV/pH in the standard pH solutions.

      • KCI등재후보

        "Dice와 fill" 방식을 이용한 1-3 압전복합재의 제조와 횡방향 단위 크기에 따른 압전특성 평가

        김영덕,김광일,정우철,김흥락,김동수 한국비파괴검사학회 2002 한국비파괴검사학회지 Vol.22 No.4

        NDT나 의료용 영상장치에 응용되는 압전복합체는 일반적인 세라믹이나 고분자 압전재료에 비하여 많은 장점을 가진다. 이들 응용분야에서는 전기기계결합게수가 높아야 하고, 음향임피던스가 낮아야 한다. 그러나, 압전복합제의 횡방향 단위 크기가 조밀하지 못한 경우 횡방향으로 전행하는 판파에 의한 불필요한 진동이 표면에 발생하게 된다. 횡방향 단위 크기와 세라믹 체적비에 따른 압전 특성을 조사하기 위하여 PMN-PZT 세라믹과 Epofix 에폭시로 에폭시의 폭을 달리하면서 1-3 형 압전복합체를 제작하였다. 제작된 1-3형 압전복합체의 두께방향 진동모드의 전기기계결합계수, 음향임피던스는 각각 0.36~0.64, 9.8~22.7 MRayl로 나타났으며, 횡방향 단위크기가 줄어들수록 횡방향 모드 공진 주파수가 증가하였다. The piezoelectric composites had many adventages in comparison qith conventional piezoelectric ceramics and piezopolymers for ultrasonic transducers used in NDT and in medical ultrasonic imaging. The electromechanical coupling coeffucient should be high and the acoustic impedance should be low in these applications. However, the cross-coupling with spurious oscillations caused lateral spatial scale. The thickness mode electomechanical coupling coefficient of 1-3 type of piezoelectric composites were 0.36 to 0.64, and the acoustic impedance of them were 9.8 to 22.7 MRayl. The lateral resonance frequency of 1-3 type piezoelectric composites shifted to high frequency region with decreasing lateral spatial scale.

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