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      • KCI등재

        FT-IR Microscope를 이용한 합성섬유의 미세플라스틱 분석

        김지현 ( Jihyun Kim ),김운중 ( Woonjung Kim ) 한국환경분석학회 2020 환경분석과 독성보건 Vol.23 No.4

        Recently,microplasticshavebeenreportedtocauseincreasingharmtohumanhealththroughmarineenvironmentalpollution.Becausemicroplasticsaresmallplasticparticleshavingasizeof<5mm,theycannotbefilteredfromsewagetreatmentfacilitiesand,thus,areintroducedintotheoceansandrivers,ultimatelyreachingthefoodchain.Syntheticfibersistheprimarysourceofrecentlyoccurringmicroplasticpollution.Inthisstudy,themostcommonlyusedpolyesterfiberwasselected,andpaper,liquid,andsoliddetergentswereusedformicroplasticanalysisanddetergentcomparison.Theshapesofthefibersanddetergentswereconfirmedthroughopticalmicroscope(OM).Afterwashing,thesamplesweresievedthroughameshfilter(47mm),andcharacterizedbythroughfouriertransforminfraredspectroscopy(FT-IR)withmicroscope.Manyfineplasticsweregeneratedinlaundryusingsolidandpaperdetergents,whereasfewermicroplasticsweregeneratedusingliquiddetergents.

      • 반도체 CMP 용 세리아 슬러리의 AMP 함량에 따른 분산안정성에 관한 연구

        황소희,임진아,김운중,Sohee Hwang,JinA Lim,Woonjung Kim 반도체공학회 2024 반도체공학회 논문지 Vol.2 No.2

        반도체 소자의 집적도는 높아져 왔으며 이는 더 작고 밀도가 높은 회로 및 소자를 제조하는 것을 의미한다. 이에 따라 다양한 층간 표면을 매끄럽게 유지하여 미세한 패턴을 형성하고 고밀도 회로를 안정적으로 제작하는데 평탄화 기술이 중요한 역할을 한다. 결과적으로 반도체에서의 CMP(chemical mechanical polishing) 공정은 다층 구조 소자를 만들기 위해서 반드시 필요한 공정이 되었다. 일반적으로 CMP 공정의 슬러리 조성은 세리아(ceria), 분산제(dispersant), 물(DI water) 이렇게 3 가지 성분이 균형을 이루는 것이 중요하다. 본 연구에서는 AMP(2-Amino-2-methyle-1-propanol) 함량을 달리한 양쪽성 계면활성제를 사용한 세리아 슬러리 안정성 연구를 수행하였다. 결과적으로 AMP 함량에 따라 카복실기(-COOH) 영향으로 pH 안정화 되었으며, 세리아 슬러리 응집현상이 발생하지 않았으며 분산 안정성 문제가 없는 것으로 확인되었다. CMP (Chemical Mechanical Polishing) processes have become essential for creating multilayered component structures in semiconductor manufacturing. Typically, the slurry composition in CMP processes involves a balance of three components such as ceria, dispersant, and deionized water. In this study, we conducted research on the stability of ceria slurries using an amphoteric surfactant with controlled concentrations of AMP (2-Amino-2-methyl-1-propanol). The results indicated pH stabilization influenced by carboxylic (-COOH) groups depending on the AMP concentration. Additionally, there was no occurrence of aggregation in the ceria slurry, confirming the absence of dispersion stability issues.

      • KCI등재

        Cetyl alcohol 함량에 따른 크림 제형 Henna 천연 염모제의 안정성

        강이영(Eyoung Kang),이승희(Seunghee Lee),김운중(Woonjung Kim),정종진(Jongjin Jung) 한국응용과학기술학회 (구.한국유화학회) 2021 한국응용과학기술학회지 Vol.38 No.4

        본 연구에서는 유화안정제 중 하나인 cetyl alcohol 함량에 따른 천연 염모제 헤나의 유화 안정 성을 분석하고 가장 안정한 유화를 나타내는 cetyl alcohol 함량을 확인하였다. 유화 안정성을 분석하기 위해 cetyl alcohol의 함량에 따른 입자 크기, 입자 형태, 점도 및 염색 후 색상의 차이를 비교하였다. Dynamic light scattering (DLS) zeta 분석 결과, cetyl alcohol 3 % 가 zeta potential 값이 115.9 mV로 가장 높은 값을 보였으며, 입자크기분포는 cetyl alcohol의 함량이 3 %인 크림 제형 염모제가 증류수에 분산된 헤나와 비교해 입도분포의 폭이 좁았다. 점도계 분석 결과 cetyl alcohol의 함량이 증가할수록 점도가 증가하였고, 크림 제형의 헤나 pH 측정 결과 두피에 적합한 pH 범위로 측정되었다. 또한 헤나 크림 제형 염모제에서는 cetyl alcohol의 함량이 증가할수록 유화 안정성이 증가하였다. In this study, the emulsion stability of henna, a natural hair dye, according to the content of cetyl alcohol, one of the emulsification stabilizers, was analyzed, and the content of cetyl alcohol showing the most stable emulsification was confirmed. To analyze the emulsion stability, differences in particle size, particle shape, viscosity, and color after dyeing were compared according to the content of cetyl alcohol. As a result of dynamic light scattering (DLS) zeta analysis, cetyl alcohol 3% showed the highest zeta potential value of 115.9 mV, and the particle size distribution was henna in which a cream-type hair dye containing 3% cetyl alcohol was dispersed in distilled water. The width of the particle size distribution was narrow compared to. As a result of viscometer analysis, the viscosity increased as the content of cetyl alcohol increased. As a result of measuring the henna pH of the cream formulation, it was measured in a pH range suitable for the scalp. As a result, emulsion stability increases as the content of cetyl alcohol increases in henna cream formulations for hair dye.

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