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      템플릿 기반 CVD를 이용한 대면적 2D Mo2C 박막의 합성과 성장 메커니즘에 관한 연구

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      https://www.riss.kr/link?id=T17411571

      • 저자
      • 발행사항

        천안 : 단국대학교 대학원(천), 2026

      • 학위논문사항
      • 발행연도

        2026

      • 작성언어

        한국어

      • 주제어
      • DDC

        620.11 판사항(23)

      • 발행국(도시)

        충청남도

      • 기타서명

        A study on the Synthesis and Growth Mechanism of Large-Area 2D Mo2C Films via Template-Mediated CVD

      • 형태사항

        vii, 79 p. : 삽화 ; 30 cm.

      • 일반주기명

        단국대학교 논문은 저작권에 의해 보호받습니다.
        지도교수: 우윤성
        참고문헌: p. 69-75

      • UCI식별코드

        I804:11017-000000202804

      • 소장기관
        • 단국대학교 퇴계기념도서관(중앙도서관) 소장기관정보
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      국문 초록 (Abstract) kakao i 다국어 번역

      몰리브덴 카바이드(Mo2C)는 뛰어난 전기전도도, 우수한 기계적 안정성, 그리고 초전도성과 높은 촉매 활성으로 인해 차세대 에너지 변환 및 양자소자 응용 분야에서 중요한 후보 물질로 주목받고 있다. 그러나 균일한 두께와 우수한 결정성을 갖는 대면적 Mo2C 박막을 재현성 있게 합성하는 것 은 여전히 어려운 과제로 남아 있다. 특히, 기존의 MAX 상 전구체를 이용한 선택적 에칭 기반의 하향식(top-down) 합성법은 두께 불균일성, 표면 결함, 그리고 불필요한 표면 작용기 형성 등으로 인해 전기적 및 촉매적 특성을 저하시킨다는 한계가 있다. 이에 본 연구에서는 다층 그래핀을 탄소 공급원으로 활용함과 동시에 CH4 의 확산을 제어하는 템플릿으로 이용한 화학기상증착(CVD) 기반 상향식 (bottom-up) 합성 전략을 제시하였다. 그래핀의 층수를 정밀하게 조절함으로써 Mo2C의 핵생성 밀도, 측방향 성장 속도, 두께, 결정립 형태 등 다양한 성 장 매개변수를 제어할 수 있음을 확인하였다. 구조 분석 결과, 두꺼운 그래 핀 템플릿(5층 이상)을 사용할 경우 불규칙한 결정립 형태와 넓은 피복면적, 낮은 결함 밀도를 지닌 Mo2C 박막이 형성되며, 초전도 특성 측정을 통해 높 은 결정성이 유지됨이 검증되었다. 반면, 이중층 그래핀 템플릿을 적용한 시 료에서는 가장 우수한 수소 발생 반응(HER) 활성이 나타났으며, 이는 활성 가장자리(edge-active site)의 노출이 극대화된 결과로 해석된다. 또한, 본 연구에서는 전사 과정에서 발생할 수 있는 박막 손상과 오염 문 제를 방지하기 위해 transfer-free 방식을 도입하여, 웨이퍼 기판 위에 직접 Mo2C 박막을 성장시키는 공정을 수행하였다. 이를 통해 전사 단계 없이도 Mo2C 필름을 대면적으로 성장시킬 수 있음을 확인하였으며, 이는 향후 대면 적 소자 제작 공정의 효율성과 재현성을 높이는 데 중요한 기반이 될 것으 로 기대된다. 결과적으로, 본 연구는 그래핀 템플릿을 이용한 화학기상증착법이 2차원 전이금속 카바이드의 성장 거동과 구조적 특성을 정밀하게 제어할 수 있는 효과적인 접근임을 입증하였다. 나아가 이러한 방법론은 초전도성과 전기촉 매 기능을 동시에 구현할 수 있는 2D 소재의 합리적 설계 전략으로 확장 가 능하며, 고성능 에너지 변환소자 및 양자소자 개발에 새로운 가능성을 제시한다.
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      몰리브덴 카바이드(Mo2C)는 뛰어난 전기전도도, 우수한 기계적 안정성, 그리고 초전도성과 높은 촉매 활성으로 인해 차세대 에너지 변환 및 양자소자 응용 분야에서 중요한 후보 물질로 주목...

      몰리브덴 카바이드(Mo2C)는 뛰어난 전기전도도, 우수한 기계적 안정성, 그리고 초전도성과 높은 촉매 활성으로 인해 차세대 에너지 변환 및 양자소자 응용 분야에서 중요한 후보 물질로 주목받고 있다. 그러나 균일한 두께와 우수한 결정성을 갖는 대면적 Mo2C 박막을 재현성 있게 합성하는 것 은 여전히 어려운 과제로 남아 있다. 특히, 기존의 MAX 상 전구체를 이용한 선택적 에칭 기반의 하향식(top-down) 합성법은 두께 불균일성, 표면 결함, 그리고 불필요한 표면 작용기 형성 등으로 인해 전기적 및 촉매적 특성을 저하시킨다는 한계가 있다. 이에 본 연구에서는 다층 그래핀을 탄소 공급원으로 활용함과 동시에 CH4 의 확산을 제어하는 템플릿으로 이용한 화학기상증착(CVD) 기반 상향식 (bottom-up) 합성 전략을 제시하였다. 그래핀의 층수를 정밀하게 조절함으로써 Mo2C의 핵생성 밀도, 측방향 성장 속도, 두께, 결정립 형태 등 다양한 성 장 매개변수를 제어할 수 있음을 확인하였다. 구조 분석 결과, 두꺼운 그래 핀 템플릿(5층 이상)을 사용할 경우 불규칙한 결정립 형태와 넓은 피복면적, 낮은 결함 밀도를 지닌 Mo2C 박막이 형성되며, 초전도 특성 측정을 통해 높 은 결정성이 유지됨이 검증되었다. 반면, 이중층 그래핀 템플릿을 적용한 시 료에서는 가장 우수한 수소 발생 반응(HER) 활성이 나타났으며, 이는 활성 가장자리(edge-active site)의 노출이 극대화된 결과로 해석된다. 또한, 본 연구에서는 전사 과정에서 발생할 수 있는 박막 손상과 오염 문 제를 방지하기 위해 transfer-free 방식을 도입하여, 웨이퍼 기판 위에 직접 Mo2C 박막을 성장시키는 공정을 수행하였다. 이를 통해 전사 단계 없이도 Mo2C 필름을 대면적으로 성장시킬 수 있음을 확인하였으며, 이는 향후 대면 적 소자 제작 공정의 효율성과 재현성을 높이는 데 중요한 기반이 될 것으 로 기대된다. 결과적으로, 본 연구는 그래핀 템플릿을 이용한 화학기상증착법이 2차원 전이금속 카바이드의 성장 거동과 구조적 특성을 정밀하게 제어할 수 있는 효과적인 접근임을 입증하였다. 나아가 이러한 방법론은 초전도성과 전기촉 매 기능을 동시에 구현할 수 있는 2D 소재의 합리적 설계 전략으로 확장 가 능하며, 고성능 에너지 변환소자 및 양자소자 개발에 새로운 가능성을 제시한다.

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      목차 (Table of Contents)

      • Ⅰ. 서론 1
      • 1.1 연구 배경 1
      • 1.2 이론 및 문헌 조사 4
      • 1.2.1 그래핀 4
      • 1.2.2 화학기상증착법 Mo2C 성장 7
      • Ⅰ. 서론 1
      • 1.1 연구 배경 1
      • 1.2 이론 및 문헌 조사 4
      • 1.2.1 그래핀 4
      • 1.2.2 화학기상증착법 Mo2C 성장 7
      • Ⅱ. 실험 방법 12
      • 2.1 다층 그래핀 성장 및 적층 12
      • 2.2 다층 그래핀을 활용한 Mo2C 성장 16
      • 2.3 Mo2C 전사 방법 18
      • 2.4 전사 없는 Mo2C의 성장 방법 (Transfer-free) 20
      • 2.5 특성 평가 23
      • Ⅲ. 실험 결과 25
      • 3.1 그래핀 층수가 Mo2C 특성에 미치는 영향 25
      • 3.1.1 그래핀 층수에 따른 Mo2C 모양 변화 25
      • 3.1.2 그래핀 층수에 따른 Mo2C 화학적 결합 28
      • 3.2 그래핀 템플릿에 의한 Mo2C 성장 메커니즘 33
      • 3.2.1 Mo2C와 그래핀의 위치 관계 37
      • 3.2.2 다층 그래핀을 사용한 선택적 Mo2C의 성장 39
      • 3.2.3 다층 그래핀과 메탄의 유무에 따른 Mo2C 성장 차이 41
      • 3.2.4 다층 그래핀의 Mo2C 성장에 대한 역할 및 메커니즘 43
      • 3.3 Mo2C의 전기적, 화학적 특성 49
      • 3.3.1 Mo2C의 전기적 특성 49
      • 3.3.2 Mo2C 수소 발생 반응 특성 51
      • 3.4 Mo2C의 Sio2/Si 기판으로의 직접 성장 55
      • 3.4.1 고상 탄소원의 종류 및 공정 조건에 따른 Mo2C 특성 평가 55
      • 3.4.2 Mo2C의 결정 및 화학 구조 분석 58
      • 3.4.3 Mo2C 박막의 전기적 특성 64
      • Ⅴ. 결론 67
      • 참고문헌 69
      • Abstract 76
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