본 연구에서는 2.5D/3D HBM(High Bandwidth Memory) 패키징용 유리 인터포저를 대상으로, 유리 조성과 CMP(Chemical Mechanical Polishing) 공정에 의한 표면 거칠기가 기계적 거동 및 파괴 특성에 미치는 영향을...
본 연구에서는 2.5D/3D HBM(High Bandwidth Memory) 패키징용 유리 인터포저를 대상으로, 유리 조성과 CMP(Chemical Mechanical Polishing) 공정에 의한 표면 거칠기가 기계적 거동 및 파괴 특성에 미치는 영향을 분석하였다. Quartz(QZ), Boro, EXG 세 종류의 유리를 네 단계 CMP 조건(A–D)으로 연마하여 표면 특성과 기계적 물성을 체계적으로 평가하였다. 표면 형상은 AFM과 OP로 정량화하고, 화학 조성 및 네트워크 구조는 XPS로 분석하였다. 또한 나노인덴테이션으로 경도(H)와 환산 탄성계수(Er)를 측정하고, BOR 및 4PB 시험으로 파괴 강도를 평가하였으며, 다이싱 후 단면은 V-SEM으로 관찰하였다.
서로 다른 CMP 조건(A–D)을 적용함에 따라 표면 거칠기(Rq)는 A ≫ B > C > D 순으로 단계적으로 감소하였고, 각 조건 내에서 조성별 거칠기는 QZ < Boro < EXG 순으로 증가하였다. XPS 분석 결과, EXG는 모디파이어 함량 증가로 Si–O 네트워크 연결성이 가장 약했으며, 이에 따라 경도는 QZ > Boro > EXG, 환산 탄성계수는 EXG > QZ > Boro 순으로 나타났다. 파괴 강도는 시험 방식에 따라 상이한 경향을 보였는데, BOR 시험에서는 EXG가 가장 높은 본질 강도를 보였으나, 4PB에서는 엣지 결함 영향으로 가장 낮은 값을 기록하였다. V-SEM 분석에서도 EXG에서 가장 넓은 뜯김 손상이 확인되어 이러한 결과를 뒷받침하였다.
결론적으로 유리 조성은 네트워크 구조 강성을 통해 고유한 기계적 특성을 결정하며, CMP 조건과 절단 손상은 실효 파괴 강도에 직접적인 영향을 미친다. 특히 EXG는 높은 본질 강도를 가지지만 표면 및 엣지 손상에 민감하여 공정 제어가 필수적이다. 본 연구는 2.5D/3D HBM 패키징용 유리 인터포저의 기계적 신뢰성 향상과 공정 조건 최적화를 위한 기초 자료를 제공한다.