금속/산화물/금속 구조에서의 저항 스위칭 메커니즘에 대한 임피던스 분광 분석 Impedance spectroscopy analysis of resistance switching mechanism in metal/oxide/metal 이 솔 지도교수 : 안 승 언 나노반도체공학...

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시흥 : 한국공학대학교 산업기술·경영대학원, 2025
학위논문(석사) -- 한국공학대학교 산업기술·경영대학원 , 나노반도체공학과 , 2025. 8
2025
한국어
경기도
; 26 cm
지도교수: 안승언
I804:41069-200000899031
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금속/산화물/금속 구조에서의 저항 스위칭 메커니즘에 대한 임피던스 분광 분석 Impedance spectroscopy analysis of resistance switching mechanism in metal/oxide/metal 이 솔 지도교수 : 안 승 언 나노반도체공학과 한국공학대학교 산업기술·경영대학원 기존 Flash memory와 DRAM은 소자의 고집적화를 위한 scale down 과 정에서 공정상의 구조적 한계와 난이도 증가로 인해 제조 비용이 상승하 고 있다. 이에 따라 새로운 구조의 차세대 메모리의 필요성이 증가하고 있으며, 그 중 Resistive Random Access Memory(RRAM)는 2-terminal의 멤리스터 기반 소자로 주목 받고있다. RRAM은 인가 전압에 따라 저항 상태가 변화하는 특성을 가지며, 실제 산업에 RRAM을 적용하기 위해서 는 저항 변화에 대한 스위칭 메커니즘을 명확히 할 필요가 있다. 현재까지 많은 연구를 통해 도전성 필라멘트 형성과 소멸을 기반으로 한 스위칭 모델이 제시되어 있지만, 임피던스 분광 분석을 활용한 저항 스위칭 메커니즘 해석은 상대적으로 부족한 실정이다. 본 연구에서는 R 금속/산화물/금속 구조의 NiO 기반 RRAM 소자를 대상으로, 임피던스 측 정을 통해 얻은 등가회로 모델을 제안하고, C-AFM을 통해 관측된 필라 멘트 정보를 연계하여 저항 스위칭 현상을 정량적·물리적으로 분석하였 다. 이를 통해 RRAM 스위칭 메커니즘에 대한 새로운 해석 방향을 제시 하고자 한다.
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